[发明专利]一种静电喷射阵列系统及其优化方法

权利要求书

1.一种静电喷射阵列系统，包含有两个或两个以上静电喷射单元，其中每个静电喷射单元包含一个独立的静电喷射喷头（1），一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生和注入装置（2），一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体存储和输运装置（3），一个独立的或与其他静电喷射单元共用的喷射基底（5），其特征在于：每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关（6），一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关（7）；该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关（6）、液体流量控制装置或液体输送开关（7）相连的自动控制装置（4），该自动控制装置（4）通过控制电荷的产生或注入通路，或液体的流量，或液体输送通断来实现喷头开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期。

2.根据权利要求1所述的静电喷射阵列系统的优化方法，其特征在于包括以下过程：

（1）、上述喷头开关模式是通过以下方法之一或几种方法的组合实现的：控制每个静电喷射单元的电荷的产生或注入通路；控制液体的流量；控制液体输送通断；

（2）、喷头开关模式中保证相邻的喷嘴轮流喷射以避免相互干扰。

3. 根据权利要求2所述的静电喷射阵列系统的优化方法，其特征在于：相邻喷嘴轮流喷射时存在过渡状态，该状态下相邻喷嘴均不喷射。

4.根据权利要求2所述的静电喷射阵列系统的优化方法，其特征在于：该方法用于平面基体的喷射，具体使用若干同极性或不同极性的喷头组成喷头阵列，上述喷头喷射相同或不同的液体，轮流喷射，基底移动或不移动。

5.根据权利要求2所述的静电喷射阵列系统的优化方法，其特征在于：该方法用于圆柱状基底的喷射，具体使用若干同极性或不同极性的喷头在圆柱形基底的侧面均匀布置组成喷头阵列，上述喷头喷射相同或不同的液体，轮流喷射，基底一边旋转喷头一边喷射，基底每旋转一个或几个完整的圈数，轮换下一喷头喷射。