[发明专利]光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法

权利要求书

1.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

液体处理结构，所述液体处理结构配置成将浸没液体供给和限制至投影系统和正对表面之间的空间，所述正对表面包括台、或由所述台支撑的衬底、或所述台和所述衬底两者；和

液滴控制器，所述液滴控制器在所述空间的径向向外位置上，配置成允许浸没液体的液滴从所述液滴控制器的径向向内位置穿过至所述液滴控制器的径向向外位置，和防止液滴从所述液滴控制器的径向向外位置到达所述液滴控制器的径向向内位置。

2.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述液滴控制器包括多个细长气体出口开口，所述细长气体出口开口配置成朝向所述正对表面引导气流。

3.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

液体处理结构，所述液体处理结构配置成将浸没液体供给和限制至投影系统和正对表面之间的空间，所述正对表面包括台、或由所述台支撑的衬底、或所述台和所述衬底两者；和

多个细长气体出口开口，所述多个细长气体出口开口在所述空间的径向向外位置上，配置成朝向所述正对表面引导气流，其中在沿着所述正对表面的扫描方向观看时和/或在沿着垂直于所述扫描方向的方向观看时，所述细长气体出口开口中的相邻的一对细长气体出口开口交叠。

4.根据权利要求2或3所述的浸没式光刻设备，还包括液体抽取开口，在从所述正对表面的扫描方向观看时，所述液体抽取开口与相邻的细长气体出口开口之间的各自的间隙对齐。

5.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

液体处理结构，所述液体处理结构配置成将浸没液体供给和限制至投影系统和正对表面之间的空间，所述正对表面包括台、或由所述台支撑的衬底、或所述台和所述衬底两者；和

液滴控制器，所述液滴控制器在所述空间的径向向外位置上，所述液滴控制器包括：

多个细长气体出口开口，所述多个细长气体出口开口配置成朝向所述正对表面引导气流；和

多个液体抽取开口，每个液体抽取开口相对于正对结构的扫描方向和/或步进方向与相邻的细长气体出口开口之间的各自的间隙对齐。

6.根据权利要求4或5所述的浸没式光刻设备，其中所述多个液体抽取开口中的至少一个设置在所限制的浸没液体的弯液面和所述细长气体出口开口之间。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的浸没式光刻设备，还包括俘获式气体出口开口，所述俘获式气体出口开口以在垂直于所述正对表面的扫描方向的方向和各自的细长气体出口开口的延伸方向之间的一角度从所述各自的细长气体出口开口的径向向内的一端延伸。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述细长气体出口开口布置在所述空间的径向向外位置上的有角的形状的线上，其中在所述形状的角处，液体抽取开口定位在V形气体出口开口的径向向内位置上，且所述V形气体出口开口的尖端指向径向向外的方向。

9.根据权利要求2至8中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述细长气体出口开口配置成以相对于所述正对表面的法线的锐角引导气流。

10.根据权利要求2至9中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述液体处理结构包括成封闭图形形式的连续气体出口开口，所述连续气体出口开口配置成朝向所述空间的径向向外位置上的所述正对表面引导气流。

11.一种使用光刻设备制造器件的方法，所述方法包括步骤：

使用限制结构将液体限制在投影系统与台、由所述台支撑的衬底、或所述台和衬底两者的正对表面之间的空间中；

沿扫描方向相对于所述投影系统移动所述正对表面；和

通过以下方式来操纵浸没液体的液滴：

允许所述液滴从液滴控制器的径向向内位置穿过至所述液滴控制器的径向向外位置，其中所述液滴控制器在所述空间的径向向外位置上，和

防止所述液滴从所述液滴控制器的径向向外位置穿过至所述液滴控制器的径向向内位置。