[发明专利]利用高分子涂布法对金属压铸件表面改质的方法无效

专利信息
申请号: 201110051317.4 申请日: 2011-03-03
公开(公告)号: CN102642346A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 林俊宏;苏家庆;邱耀弘 申请(专利权)人: 晟铭电子科技股份有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B15/08;H05K5/00
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 利用 高分子 涂布法 金属 压铸 表面 方法
【权利要求书】:

1.一种金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该方法包含下列步骤:

压铸成型一金属压铸件;

以一整平处理程序处理该金属压铸件,使该金属压铸件具有较光滑的一基材表面;

以喷涂、印刷或浸镀的方式在该基材表面覆上一高分子聚合物,并干燥固化该高分子聚合物;

以真空镀膜的方式沉积一金属薄膜于该高分子聚合物上;以及

覆上一透明保护层于该金属薄膜上。

2.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该整平处理程序为机械性研磨或机械性抛光。

3.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,于覆上该高分子聚合物前还包含一预处理的氧化程序,该预处理的氧化程序为自然氧化程序、化学皮膜氧化程序或微弧氧化程序。

4.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该金属压铸件的材质为可氧化的金属或轻金属。

5.如权利要求4所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该金属压铸件的材质为铝、镁、锌、铜、铝、锡、铁或合金金属。

6.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该高分子聚合物是包含聚胺酯、紫外线硬化树脂或聚苯硫醚树脂。

7.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该金属薄膜为单层金属薄膜、多层金属薄膜或金属陶瓷薄膜。

8.如权利要求7所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该金属薄膜为氮化钛薄膜、氮碳化钛薄膜、氮化铝钛薄膜、氮化铬薄膜、类钻薄膜以及氮化铬铝钛薄膜。

9.如权利要求1所述的金属压铸件表面改质的方法,其特征在于,该透明保护层的成份包含聚胺酯或紫外线硬化树脂。

10.一种金属压铸件结构,其特征在于,其包含:

一金属压铸件,包含一基材表面;

一高分子聚合物,以喷涂、印刷或浸镀的方式附着于该金属压铸件的该基材表面上;

一层金属薄膜,以真空镀膜的方式附着于该高分子聚合物上;以及

一层透明保护层,覆于该金属薄膜上。

11.如权利要求10所述的金属压铸件结构,其特征在于,该金属压铸件的该基材表面经一机械性研磨或一机械性抛光程序。

12.如权利要求10所述的金属压铸件结构,其特征在于,该金属压铸件的该基材表面经一自然氧化程序、化学皮膜氧化程序或微弧氧化程序。

13.如权利要求10所述的金属压铸件结构,其特征在于,该金属压铸件的材质为可氧化的金属或轻金属。

14.如权利要求13所述的金属压铸件结构,其特征在于,该金属压铸件的材质为铝、镁、锌、铜、铝、铁或合金金属。

15.如权利要求10所述金属压铸件结构,其特征在于,该高分子聚合物包含聚胺酯、紫外线硬化树脂或聚苯硫醚树脂。

16.如权利要求10所述的金属压铸件结构,其特征在于,该金属薄膜为单层金属薄膜、多层金属薄膜或金属陶瓷薄膜。

17.如权利要求16所述金属压铸件结构,其特征在于,该金属薄膜为氮化钛薄膜、氮碳化钛薄膜、氮化铝钛薄膜、氮化铬薄膜、类钻薄膜以及氮化铬铝钛薄膜。

18.如权利要求10所述的金属压铸件结构,其特征在于,该透明保护层的成份包含聚胺酯或紫外线硬化树脂。

19.一种机壳,其特征在于,其包含:

一金属压铸件,经研磨或抛光后具有较光滑的一基材表面;

一高分子聚合物,以喷涂、印刷或浸镀的方式附着于该金属压铸件的该基材表面上;

一层金属薄膜,以真空镀膜的方式附着于该高分子聚合物上;以及

一层透明保护层,覆于该金属薄膜上。

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