[发明专利]金属外壳上形成乳白色膜层的方法无效
| 申请号: | 201110046305.2 | 申请日: | 2011-02-25 |
| 公开(公告)号: | CN102650036A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
| 发明(设计)人: | 王仲培;廖名扬 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属外壳 形成 乳白色 方法 | ||
1.一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法,包括:
步骤1:提供一金属外壳;
步骤2:利用反应式磁控溅射镀膜工艺,以纯铬为靶材,以氮气为反应气体,于该金属外壳表面形成一氮化铬膜层;以及
步骤3:利用反应式磁控溅射镀膜工艺,以纯铬及纯铝为靶材共溅镀,以氧气为反应气体,在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层,该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1,该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特,温度介于摄氏180至220度,时间介于58至62分钟。
2.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法,其特征在于,步骤2中,在所述反应式磁控溅射镀膜工艺中向高真空镀制舱内通入的氮气与氩气的比例约为2.3∶1。
3.如权利要求2所述的乳白色膜层的镀制方法,其特征在于,步骤2中,该氩气流量为25sccm,该氮气流量为58sccm。
4.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法,其特征在于,该纯铬靶材受轰击的功率为2.5千瓦,该纯铝靶材受轰击的功率为30千瓦。
5.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法,其特征在于,步骤3中,在所述反应式磁控溅射镀膜工艺中该金属外壳的公转转速为5转速每分钟,自转转速介于3.3至2.7转速每分钟,该自转方向与该公转方向相反。
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