[发明专利]一种LED芯片无效
申请号: | 201110045116.3 | 申请日: | 2011-02-25 |
公开(公告)号: | CN102142495A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 刘慰华 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 | ||
技术领域
本发明涉及一种LED芯片。
背景技术
发光二极管(LED)是利用半导体材料中的电子与空穴结合时能量带位阶的改变,以发光形式,释放出能量。目前在市场上应用的发光二极管所发出的光为红、绿、蓝及白光等多种。由于发光二极管具有体积小、寿命长、驱动电压低、耗电量低、反应速率快、耐震性佳等优点,可应用在银行汇率看板、汽车第三煞车灯、交通标志、户外信息看板与日常照明等各种应用领域中。现有的发光二极管(LED)主要由二极管芯片、引出电极和透明封装外壳构成。由于其具备寿命长、体积小、发热量低、耗电量少、反应速度快、无辐射及单色性发光的特性及优点,被广泛应用于各项产品中。但是现有的发光二极管芯片只能发出单一颜色的光,例如:白色发光二极管芯片只能发出白色的光,蓝色的发光二极管只能发出蓝色的光。现有的发光二极管芯片包括:一长晶层;一n型缓冲层,形成于长晶层上;一n型接触层,形成于n型缓冲层上;一n型限制层,形成于n型接触层上;一氮化镓发光第一层,形成于n型接触层上;一氮化镓发光第二层,形成于氮化镓发光第一层;一p型限制层,形成于氮化镓发光第二层上;一p型接触层,形成于p型限制层上;一p型电极,形成于p型接触层上;一n型电极,形成于n型限制层上。
现有技术中,芯片一般是以正方形切割,由于边缘有一边是不平行于解理面,切割时容易产生边角缺失或是边缘毛糙等情况,从而大大浪费了原材料,同时也无法从单位面积的外延片上分出更多优质的LED芯片,成本上造成了浪费。而且GaN基的发光二极管其外形设计不利于电流的有效扩展的芯片电极设计:离电极较远部分区域,电流密度小,整个芯片电流分布不均,进而会影响到发光效率。并且由于材料结构容易引起分割、崩裂芯片过程中产生破边而影响产品的良率。
发明内容
为了克服现有技术存在的不足,本发明要解决的技术问题在于提供一种电流扩展均匀、制程良率好的LED芯片。
为了解决本发明的技术问题,本发明提供了一种LED芯片,所述的LED芯片的各个侧边与发光二极管基底的解理面相平行。
本发明进一步改进在于,所述的发光二极管基板的材质为蓝宝石。
本发明进一步改进在于,所述的LED芯片的其中一边垂直于发光二极管基板的平边。
本发明进一步改进在于,所述的LED芯片的横截面形状为三角形。
本发明进一步改进在于,所述的LED芯片各个侧边之间的夹角为60°。
本发明进一步改进在于,N型电极线平行于芯片侧边。
本发明进一步改进在于,P型电极线平行于芯片侧边。
由于采用了以上技术方案,LED芯片的各个侧边与发光二极管基底的解理面相平行,对LED芯片切割、崩裂分离时对LED芯片的伤害较小,防止出现边角缺失和边角粗糙的情况。无论是小芯片的图形电极设计还是大芯片图形电极设计,对芯片切割、崩裂分离时对芯片的伤害较小,芯片各区域电流密度分布较均匀,拥有更好的电流扩展效率。
附图说明
附图1为本发明实施例中解理面的分布示意图;
附图2为本发明实施例中设置了电极的LED芯片结构一的结构示意图;
附图3为本发明实施例中设置了电极的LED芯片结构二的结构示意图。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细闸述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明的实施例是一种LED芯片,LED芯片的各个侧边与发光二极管基底的解理面相平行。矿物晶体在外力作用下严格沿着一定结晶方向破裂,并且能裂出光滑平面的性质称为解理,这些在解理中出现的平面称为解理面。LED芯片的各个侧边与发光二极管基底的解理面相平行,对LED芯片切割、崩裂分离时对LED芯片的伤害较小,防止出现边角缺失和边角粗糙的情况。
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