[发明专利]黑底、其制造方法和使用黑底的图像显示装置无效
| 申请号： | 201110044610.8 | 申请日： | 2011-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN102163526A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 桥本武;伊藤淳二 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01J17/16 | 分类号： | H01J17/16;H01J29/86;H01J9/24;G02F1/1335;H01J31/12;H01J17/49 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 黑底 制造 方法 使用 图像 显示装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种在基板上形成的黑底，包括：
四个层，所述四个层通过依次层叠第一膜、第二膜、第三膜和第四膜而被形成，每个膜由过渡金属氧化物和硅氧化物制成，
其中，第一膜的折射率＝第三膜的折射率＜第二膜的折射率＝第四膜的折射率的关系被设定，第四膜是多层膜，其中每层的组分彼此是同样的，并且，当在TEM照片上观察时，在第四膜内辨认出边界。
2.根据权利要求1的黑底，其中，通过层叠组分是同样的、具有大于或等于1.2纳米且小于或等于30纳米的厚度的膜层，形成第四膜。
3.根据权利要求2的黑底，其中，过渡金属是选自钴、锰、镍和铁中的一种。
4.根据权利要求1的黑底，其中，第一膜的折射率为大于或等于1.6且小于或等于2.1，第一膜的折射率小于第二膜的折射率，并且，第二膜的折射率为大于或等于2.1。
5.一种制造根据权利要求1的黑底的方法，包括：
通过溅射形成黑底；和
通过重复淀积和淀积中断而形成第四膜。
6.根据权利要求5的方法，其中，第四膜是通过在淀积中断期间在与淀积气氛不同的气氛中被暴露而形成的。
7.根据权利要求5或权利要求6的方法，其中，通过在混有氧气的气氛中溅射，形成黑底。
8.一种图像显示装置，包括：
根据权利要求1的黑底。
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