[发明专利]质谱仪

权利要求书

1.一种质谱仪，其包括能够安置可拆装的试样板的设备本体和利用基质辅助激光解吸电离法使试样离子化的离子源，所述基质辅助激光解吸电离法包括以下的一系列步骤：对从所述设备本体取出的试样板上持有的试样施加基质，将试样板安置在所述设备本体中，并且使来自激光照射单元的激光束投射到施加有基质的试样上以使该试样离子化，所述质谱仪还包括：

a)照射痕迹形成部件，用于当试样板被安置在所述设备本体中时，通过使来自所述激光照射单元的激光束投射到该试样板的预定位置来在该试样板上形成照射痕迹，其中，该激光束的能量比使试样离子化的处理所使用的激光束的能量高；

b)参考图像获取部件，用于在载有未施加基质的试样且形成有照射痕迹的试样板被安置在所述设备本体中时，获取包括该试样板上的照射痕迹的显微图像，并且保存所获取到的图像作为参考图像；

c)位移检测部件，用于基于从所述参考图像和以下的包括试样板上的照射痕迹的显微图像这两者观察到的照射痕迹的位置的变化，来计算该试样板在被再次安置在所述设备本体中时发生的位移的大小和方向，其中，该包括试样板上的照射痕迹的显微图像是在该试样板在载有施加了基质的试样的情况下被安置在所述设备本体中时获得的；以及

d)位移校正部件，用于在对试样的分析区域进行质谱分析之前，改变来自所述激光照射单元的激光束和该试样之间的相对位置，以消除由所述位移检测部件计算出的位移，其中，所述分析区域是参考在获取所述参考图像的同时获取到的该试样的显微图像所选择的。

2.根据权利要求1所述的质谱仪，其特征在于，还包括：

信息存储部件，用于将由所述照射痕迹形成部件形成在试样板上的照射痕迹的视觉特征用作识别符，将与该试样板、测量或试样有关的信息与所述识别符相关联，并且存储该信息；以及

信息查找部件，用于在试样板的取得于该试样板被安置在所述设备本体中时的显微图像上识别所述照射痕迹的视觉特征，并且参考所述信息存储部件来查找并输出与所关注的试样板相对应的信息。

3.根据权利要求1所述的质谱仪，其特征在于，与试样板或测量有关的信息与由所述照射痕迹形成部件形成在该试样板上的多个照射痕迹的布局或图案相关联，从而该试样板本身能够保持前述信息。

4.一种质谱仪，其包括能够安置可拆装的试样板的设备本体和利用基质辅助激光解吸电离法使试样离子化的离子源，所述基质辅助激光解吸电离法包括以下的一系列步骤：对从所述设备本体取出的试样板上持有的试样施加基质，将试样板安置在所述设备本体中，并且使来自激光照射单元的激光束投射到施加有基质的试样上以使该试样离子化，所述质谱仪还包括：

a)参考图像获取部件，用于在载有未施加基质的试样的试样板被安置在所述设备本体中时，获取该试样板的表面的显微图像，并且保存所获取到的图像作为参考图像；

b)位移检测部件，用于基于从所述参考图像和以下的试样板的表面的显微图像这两者识别出的划痕图案的位置的变化，计算该试样板在被再次安置在所述设备本体中时发生的位移的大小和方向，其中，该试样板的表面的显微图像是在该试样板在载有施加了基质的试样的情况下被安置在所述设备本体中时获得的，并且所述划痕图案是在该试样板的制造过程中形成在该试样板的表面上的；以及

c)位移校正部件，用于在对试样的分析区域进行质谱分析之前，改变来自所述激光照射单元的激光束和该试样之间的相对位置，以消除由所述位移检测部件计算出的位移，其中，所述分析区域是参考在获取所述参考图像的同时获取到的该试样的显微图像所选择的。

5.一种质谱仪，其包括能够安置可拆装的试样板的设备本体和利用基质辅助激光解吸电离法使试样离子化的离子源，所述基质辅助激光解吸电离法包括以下的一系列步骤：对从所述设备本体取出的试样板上持有的试样施加基质，将试样板安置在所述设备本体中，并且使来自激光照射单元的激光束投射到施加有基质的试样上以使该试样离子化，所述质谱仪还包括：

a)参考图像获取部件，用于在载有未施加基质的试样的试样板被安置在所述设备本体中时，获取包括该试样板的角部的显微图像，并且保存所获取到的图像作为参考图像；

b)位移检测部件，用于基于从所述参考图像和以下的包括试样板的角部的显微图像这两者识别出的角部的位置的变化，计算该试样板在被再次安置在所述设备本体中时发生的位移的大小和方向，其中，该包括试样板的角部的显微图像是在该试样板在载有施加了基质的试样的情况下被安置在所述设备本体中时获得的；以及

c)位移校正部件，用于在对试样的分析区域进行质谱分析之前，改变来自所述激光照射单元的激光束和该试样之间的相对位置，以消除由所述位移检测部件计算出的位移，其中，所述分析区域是参考在获取所述参考图像的同时获取到的该试样的显微图像所选择的。