[发明专利]压力传感器和方法

权利要求书

1.一种用于提供压力传感器衬底的方法，包括：

创建第一空腔，所述第一空腔在衬底内部在与衬底的主表面垂直的第一方向上延伸并且在衬底内部在与所述第一方向垂直的第二方向上延伸进入衬底的第一通气区域；

创建第二空腔，所述第二空腔在衬底内部在所述第一方向上延伸，在所述第二方向上平行于所述第一空腔延伸，并且不延伸进入所述第一通气区域；以及

将所述第一空腔开口于所述第一通气区域中。

2.根据权利要求1的方法，其中创建第一和第二空腔包括：

创建在所述第一方向上延伸进入所述衬底的第一沟槽；

创建在所述第一方向上延伸进入所述衬底的第二沟槽；以及

封闭所述第一沟槽和所述第二沟槽。

3.根据权利要求2的方法，其中封闭包括在衬底上沉积电介质。

4.根据权利要求1的方法，其中创建所述第一空腔使得所述第一空腔在所述第二方向上延伸超过分割边界，所述分割边界是第一通气区域的边界，以及

其中所述第二空腔在第二方向上不延伸超过所述分割边界。

5.根据权利要求4的方法，进一步包括在所述分割边界处执行衬底的分割。

6.根据权利要求5的方法，其中执行分割包括下列中的至少一个：在所述分割边界处的锯割、切割、磨边和隐形切割。

7.根据权利要求1的方法，其中第一和第二空腔创建为在所述第二方向上具有相同的宽度。

8.根据权利要求1的方法，其中第一和第二空腔创建为使得它们在所述第一方向上以相同的深度延伸。

9.根据权利要求1的方法，其中第一和第二空腔的平行部分创建为相对于彼此具有在5纳米到10微米的范围内的距离，5纳米和10微米也包括在内。

10.根据权利要求1的方法，其中第一和第二空腔创建为具有在5纳米到10微米的范围内的宽度，5纳米和10微米也包括在内。

11.根据权利要求1的方法，其中所述压力传感器衬底配置为使得平行于第一空腔延伸的第二空腔的部分的两个平行侧壁之间的电容响应于在第一和第二空腔之间且在衬底内部的偏转而变化。

12.根据权利要求1的方法，其中所述第二空腔创建为使得其而且延伸进入第二通气区域，其中所述第一空腔创建为使得其不延伸进入所述第二通气区域，所述方法进一步方括将第二空腔开口于所述第二通气区域中。

13.根据权利要求12的方法，进一步包括在第二分割边界处执行衬底的分割，所述第二分割边界是第二通气区域的边界。

14.一种压力传感器衬底，包括：

衬底的第一通气区域；

第一空腔，在衬底内部在与衬底的主表面垂直的第一方向上延伸，所述第一空腔也在衬底内部在与所述第一方向垂直的第二方向上延伸进入所述衬底的第一通气区域；以及

第二空腔，在衬底内部在第一方向上延伸，所述第二空腔也在第二方向上平行于第一空腔延伸，所述第二空腔不延伸进入第一通气区域，其中

所述第一空腔通过所述第一通气区域而向压力传感器衬底外部的周围环境开口。

15.根据权利要求14的压力传感器衬底，其中所述第一空腔在第二方向上延伸直到所述压力传感器衬底的侧表面，并且其中所述第二空腔在第二方向上不延伸到所述压力传感器衬底的侧表面。

16.根据权利要求14的压力传感器衬底，其中第一和第二空腔在第二方向上具有相同的宽度。

17.根据权利要求14的压力传感器衬底，其中第一和第二空腔在第一方向上以相同的深度延伸。

18.根据权利要求14的压力传感器衬底，其中在第一和第二空腔的第二方向上延伸的平行部分相对于彼此具有在5纳米到10微米的范围内的距离，5纳米和10微米也包括在内。

19.根据权利要求14的压力传感器衬底，其中第一和第二空腔每个在第二方向上具有在5纳米到10微米的范围内的宽度，5纳米和10微米也包括在内。