[发明专利]显影装置和显影方法

权利要求书

1.一种显影装置，该显影装置是对已曝光的基板进行显影的显影装置，其特征在于，包括：

气密的处理容器，其用于形成处理气氛；

调温板，其设在上述处理容器内，用于载置基板；

气氛气体供给部，其用于向上述处理容器内的基板的表面供给包含显影液雾沫和显影液蒸气的气氛气体；

第1温度调整部，其用于将上述调温板的温度调整为上述气氛气体在基板上结露的温度，

上述处理容器的内壁的温度被维持为上述气氛气体难以在该内壁上结露的温度。

2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，

该显影装置还包括温度设定部，该温度设定部借助上述第1温度调整部设定调温板的温度，以使上述基板表面的显影液的液膜的厚度成为与基板的处理制程程序相对应的厚度。

3.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，

该显影装置还包括第2温度调整部，该第2温度调整部用于将上述处理容器的内壁的温度维持为上述显影液蒸气难以在该内壁上结露的温度。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的显影装置，其特征在于，

上述调温板包括用于将基板吸附在该调温板的表面上的吸附机构。

5.根据权利要求1～3中的任意一项所述的显影装置，其特征在于，

上述气氛气体包含显影液蒸气来取代包含显影液雾沫和显影液蒸气。

6.根据权利要求1～3中的任意一项所述的显影装置，其特征在于，

上述气氛气体供给部包括用于加热气氛气体的加热部件。

7.根据权利要求6所述的显影装置，其特征在于，

气氛气体被上述加热部件加热到比加热气氛中的显影液的饱和温度高的温度。

8.一种显影方法，该显影方法是对已曝光的基板进行显影的显影方法，其特征在于，包括：

向形成处理气氛的气密的处理容器内搬入基板的工序；

向已搬入到处理容器内的基板的表面供给包含显影液雾沫和显影液蒸气的气氛气体的工序；

将设在处理容器内且用于载置基板的调温板的温度调整为上述显影液蒸气在基板上结露的温度以下的工序；

将基板载置在上述调温板上而使上述显影液蒸气结露并利用上述显影液雾沫和该结露部分形成显影液的液膜的工序，

上述处理容器的内壁的温度被维持为上述显影液蒸气难以在该内壁上结露的温度。

9.根据权利要求8所述的显影方法，其特征在于，

该显影方法还包括如下工序：设定调温板的温度，以使上述基板的表面的显影液的液膜的厚度成为与基板的处理制程程序相对应的厚度。

10.根据权利要求8或9所述的显影方法，其特征在于，

上述气氛气体包含显影液蒸气来取代包含显影液雾沫和显影液蒸气。

11.根据权利要求8或9所述的显影方法，其特征在于，

该显影方法还包括利用加热部件对上述气氛气体进行加热的工序。

12.根据权利要求11所述的显影方法，其特征在于，

气氛气体被加热到比加热气氛中的显影液的饱和温度高的温度。