[发明专利]光学扩散薄膜有效
申请号: | 201110033404.7 | 申请日: | 2011-01-30 |
公开(公告)号: | CN102073081A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 孙涛 | 申请(专利权)人: | 孙涛;绵阳龙华薄膜有限公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B1/04;C08L69/00 |
代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 | 代理人: | 马林中 |
地址: | 200000 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 扩散 薄膜 | ||
1.一种光学扩散薄膜,包括高分子材料本体(110),其特征在于所述的高分子材料本体(110)的上表面或者下表面上设置有突起结构(120),或者上表面与下表面上都设置有突起结构(120),高分子材料本体(110)和突起结构(120)由工程塑料与抗静电剂、抗紫外线吸收剂、抗氧化剂中的一种或者几种的混合。
2.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的工程塑料为聚碳酸酯;所述的抗静电剂为烷基苯磺酸-烷基磷盐;所述的抗紫外线吸收剂为2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮;所述的抗氧化剂为双(2.4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯。
3.根据权利要求2所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的高分子材料本体(110)中的聚碳酸酯含量占94%至97%,双(2.4-二叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯含量占0.05%至0.5%,2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮含量占0.05%至0.5%,烷基苯磺酸-烷基磷盐含量占2%至5%。
4.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的上表面的突起结构(120)为多个,该多个突起结构(120)覆盖整个光学扩散薄膜上表面,多个突起结构(120)所占的面积之和与所述光学扩散薄膜上表面的面积之比为1。
5.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的突起结构(120)包括锥形基底(150)以及设置在锥形基底(150)上方的球冠体(160)结构,该锥形基底(150)的底部为多边形,多边形的底部向顶部延伸时逐渐形成圆形,球冠体(160)结构设置在锥形基底(150)的圆形顶部上,多个锥形基底(150)的排列方式是锥形基底(150)的多边形底部相互紧密连接。
6.根据权利要求5所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的高分子材料本体(110)上表面的突起结构(120)的锥形基底(150)的底部为正六边形。
7.根据权利要求5所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的设置在锥形基底(150)顶部的球冠体(160)结构的高度与锥形基底(150)底部的最大宽度的比值大于0.5。
8.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的突起结构(120)的高度为5微米至200微米。
9.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的高分子材料本体(110)的折射率为1.35至1.8。
10.根据权利要求1所述的光学扩散薄膜,其特征在于所述的高分子材料本体(110)下表面的突起结构(120)为球冠体突起(130),其排列方式是相邻两个球冠体突起(130)之间有间隔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙涛;绵阳龙华薄膜有限公司,未经孙涛;绵阳龙华薄膜有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110033404.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:负压风机出风口百叶支架
- 下一篇:分子泵供油锥及具有该分子泵供油锥的供油系统