[发明专利]非直接结合铜隔离的横向宽带隙半导体器件无效

专利信息
申请号: 201110031230.0 申请日: 2011-01-28
公开(公告)号: CN102142409A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: G.R.伍迪;T.G.沃德;K.布特罗斯;B.休斯 申请(专利权)人: 通用汽车环球科技运作有限责任公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L25/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张群峰
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 直接 结合 隔离 横向 宽带 半导体器件
【权利要求书】:

1. 一种器件,包括:

散热器;

缓冲层,其直接覆盖在所述散热器上;以及

外延层,其由Ⅲ族元素氮化物构成并且覆盖在所述缓冲层上。

2. 如权利要求1所述的器件,其中,所述缓冲层与所述散热器电隔离。

3. 如权利要求1所述的器件,其中,所述外延层包括横向构造的二极管。

4. 如权利要求1所述的器件,其中,所述外延层包括横向构造的开关。

5. 如权利要求1所述的器件,其中,所述外延层包括:

横向构造的二极管;以及

横向构造的开关,其联接到所述横向构造的二极管。

6. 如权利要求5所述的器件,还包括:连接所述横向构造的开关与所述横向构造的二极管的电极、至少一个引线接合、或者集成电路金属化。

7. 如权利要求5所述的器件,其中,所述横向构造的二极管和所述横向构造的开关与所述散热器电隔离。

8. 如权利要求4所述的器件,其中,所述横向构造的开关包括栅端子、源端子、和漏端子。

9. 如权利要求8所述的器件,其中:

所述外延层包括顶侧;并且

所述栅端子、所述源端子、和所述漏端子均位于所述顶侧上。

10. 一种器件,包括:

散热器;

基底,其直接覆盖在所述散热器上;

缓冲层,其直接覆盖在所述基底上;以及

外延层,其由Ⅲ族元素氮化物构成并且覆盖在所述缓冲层上。

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