[发明专利]一种半导体存储器件的复位方法有效
| 申请号: | 201110028102.0 | 申请日: | 2011-01-26 |
| 公开(公告)号: | CN102623059A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
| 发明(设计)人: | 冀永辉;丁川;王凤虎;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | G11C16/20 | 分类号: | G11C16/20 |
| 代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 王建国 |
| 地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 存储 器件 复位 方法 | ||
1.一种半导体存储器件的复位方法,其特征在于,所述方法包括:
步骤A、对半导体存储器件进行擦除操作,将所述半导体存储器件的阈值电压降低至预设电压Vref以下;
步骤B、执行第一轮软编程操作,将所述半导体存储器件的阈值电压调整至(Vref-0.5,Vref)范围内;
步骤C、执行第二轮软编程操作,将所述半导体存储器件的阈值电压调整至(Vref-0.5,Vref+0.05)范围内。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤A之前,还包括对所述半导体存储器件中所有单元进行预编程操作。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述半导体存储器件为堆栈栅非挥发性存储器。
4.根据权利要求1至3任一所述的方法,其特征在于,所述步骤B具体包括如下步骤:
步骤B1、判断所述半导体存储器件的阈值电压是否处于(Vref-0.5,Vref)范围内;是,则执行步骤B4;否,则执行步骤B2;
步骤B2、判断所述半导体存储器件的软编程次数是否小于预设次数;是,则执行步骤B3;否,则执行步骤B6;
步骤B3、执行软编程操作,将所述半导体存储器件的阈值电压调整至(Vref-0.5,Vref)范围内,之后执行步骤B1;
步骤B4、复位地址加1,之后执行步骤B5;
步骤B5、判断复位地址是否溢出;是,则执行步骤C;否,则对下一半导体存储器件执行步骤B1;
步骤B6、标记所述半导体存储器件,之后执行步骤B4。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述步骤B3具体为:在所述半导体存储器件的控制栅极施加相对于衬底电势为正,幅度为V1的电压脉冲,在其漏极施加另一相对于衬底电势为正,幅度为V2的电压脉冲,在其源极施加与衬底相同的电势,其中V1大于V2。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述V1等于6v,所述V2等于3v。
7.根据权利要求1至3任一所述的方法,其特征在于,所述步骤C具体包括如下步骤:
步骤C1、判断所述半导体存储器件的阈值电压是否处于(Vref-0.5,Vref+0.05)范围内;是,则执行步骤C4;否,则执行步骤C2;
步骤C2、判断所述半导体存储器件的软编程次数是否小于预设次数;是,则执行步骤C3;否,则执行步骤C6;
步骤C3、执行软编程操作,将半导体存储器件的阈值电压调整至(Vref-0.5,Vref+0.05)范围内,之后执行步骤C1;
步骤C4、复位地址加1,之后执行步骤C5;
步骤C5、判断复位地址是否溢出;是,则复位结束;否,则执行步骤C1;
步骤C6、标记所述半导体存储器件,之后执行步骤B4。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述步骤C3具体为:在所述半导体存储器件的控制栅极施加相对于衬底电势为正,幅度为V3的电压脉冲,在其漏极施加另一相对于衬底电势为正,幅度为V2的电压脉冲,在其源极施加与衬底相同的电势,其中V3大于V2。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述V3等于5v,所述V2等于3v。
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