[发明专利]用于形成光伏器件的背反射层的工艺

权利要求书

1.  一种用于形成一光伏器件的一有织构的背反射层的工艺，包括以下步骤：

提供一移动基板；

将该基板定位在一沉积腔室内；

溅射定位在该沉积腔室内的一金属或一金属合金靶以生产溅射材料；及

将混合有氩气的一反应气体引入到该沉积腔室，其中该反应气体和该溅射金属或金属合金材料形成一合金层，该合金层形成在该基板上，并在该基板上形成一有织构的表面。

2.如权利要求1所述的工艺，其中该反应气体包含O和OH原子。

3.如权利要求1所述的工艺，其中该基板为一不锈钢箔。

4.如权利要求1所述的工艺，其中该基板以至少每分钟6英寸的速率移动。

5.如权利要求1所述的工艺，其中该基板处于约100℃到约500℃的一温度下。

6.如权利要求1所述的工艺，其中该沉积腔室处于约3毫托到约15毫托的一压力下。

7.如权利要求1所述的工艺，其中该合金层为导电的。

8.如权利要求1所述的工艺，进一步包括通过连续地将大量反应气体引入到该沉积腔室来控制合金层织构的步骤。

9.如权利要求1所述的工艺，其中该反应气体被以均匀的方式横跨该基板的宽度引入到该沉积腔室。

10.如权利要求1所述的工艺，其中该反应气体被以一固定流速引入到该沉积腔室。

11.如权利要求1所述的工艺，其中该反应气体被以一可变流速引入到该沉积腔室。

12.如权利要求1所述的工艺，其中该反应气体选自由O₂、H₂O和N₂组成的群组。

13.如权利要求1所述的工艺，其中该金属或金属合金靶包括一铝合金，或为大体上纯的铝。

14.如权利要求1所述的工艺，进一步包括将一光反射层沉积在该合金层与该基板间隔开的该侧的步骤。

15.如权利要求1所述的工艺，进一步包括将一阻挡层沉积在该合金层与该基板间隔开的该侧的步骤。

16.如权利要求1所述的工艺，其中该合金层具有至少60 nm的RMS表面粗糙度，且具有大约200 nm的厚度。

17.如权利要求1所述的工艺，进一步包括通过维持该沉积腔室中的反应气体的浓度来控制合金层织构的步骤。

18.如权利要求16所述的工艺，其中该阻挡层包括氧化锌或铝掺杂氧化锌。

19.一种用于形成一光伏器件的一有织构的背反射层的工艺，包括以下步骤：

在大约400℃下提供一不锈钢基板；

提供一沉积腔室，其中该基板在该腔室内以介于每分钟5到100英寸的速率移动；

提供包括铝的一金属靶；

溅射该金属靶以生产溅射材料；

连续地将一反应气体引入到该沉积腔室以与该溅射材料反应；及

通过该反应气体与溅射材料的反应在该基板上形成一合金层，其中该合金层具有至少60 nm的RMS表面粗糙度和至少38%的漫反射。

20.如权利要求19所述的工艺，进一步包括在该合金层之上形成一光反射层以提供高于75%的总可见光反射和介于18%-35%之间的漫反射的步骤。