[发明专利]一种具有亲水性化合物薄膜的散热单元及亲水性化合物薄膜沉积方法

权利要求书

1.一种具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，包含：

一个金属本体，具有一个腔室，所述腔室具有：

一个蒸发部，设于所述腔室内，所述蒸发部具有复数第一导流部，所述第一导流部是由复数第一导流体间隔排列所组成，所述第一导流体间形成至少一个第一流道，所述第一流道至少一端为自由端并连接一个自由区域；

一个冷凝部，设于前述腔室内相反前述蒸发部的另侧，所述冷凝部内具有复数第二导流部，所述第二导流部是由复数第二导流体间隔排列所组成，所述第二导流体间形成至少一个第二流道；

一个连接部，设于前述蒸发部及所述冷凝部之间，所述连接部具有至少一个第一连通孔组及至少一个第二连通孔组，所述第一、二连通孔组连通所述蒸发部及所述冷凝部，所述蒸发部及所述冷凝部及所述连接部共同界定一个导流结构；

一个亲水性化合物薄膜，披附于所述蒸发部及所述冷凝部及所述连接部及所述腔室表面。

2.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述散热单元是均温板及平板式热管其中任一。

3.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述亲水性化合物薄膜可以是氧化物。

4.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述亲水性化合物薄膜可以是硫化物。

5.如权利要求3所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述氧化物是选自于氧化硅(SiO₂)及氧化钛(TiO₂)及氧化铝(A1₂O₃)及氧化锆(ZrO2)及氧化钙(CaO)及氧化钾(K₂O)及氧化锌(ZnO)所组成的群组。

6.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述金属本体是选自于铜及铝及镍及不锈钢所组成的群组。

7.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述第一导流体是一个长条状肋条，所述等长条状肋条横向间隔排列，所述第一流道形成于所述长条状肋条之间。

8.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述第一导流体纵向间隔排列。

9.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述第二导流体是一个长条状肋条，所述长条状肋条横向间隔排列，所述第二流道形成于所述长条状肋条之间。

10.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述第二导流体纵向间隔排列。

11.如权利要求1所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述等第一、二导流体间具有复数凹坑。

12.如权利要求12所述的具有亲水性化合物薄膜的散热单元，其特征在于，所述凹坑是呈圆形及方形及三角形及鱼鳞状及几何形状其中任一。

13.一种散热单元的亲水性化合物薄膜沉积方法，其特征在于，是包含下列步骤：

提供一个具有腔室及导流结构的散热单元；

在前述散热单元的腔室及导流结构表面涂布至少一个亲水性化合物。

14.如权利要求13所述的散热单元的亲水性化合物薄膜沉积方法，其特征在于，所述散热单元是均温板及平板式热管其中任一。

15.如权利要求13所述的散热单元的亲水性化合物薄膜沉积方法，其特征在于，在散热单元涂布亲水性化合物是采用物理气相沉积(PVD)及化学气相沉积(CVD)及溶胶凝胶法(sol gel)。

16.如权利要求15所述的散热单元的亲水性化合物薄膜沉积方法，其特征在于，所述溶胶凝胶法是浸渍拉提式及沉降式及旋转涂布式及旋转涂布式及涂刷式及沾湿式及浸渍拉提法其中任一。