[发明专利]微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置

权利要求书

1.一种微镜器件的筛选方法，该微镜器件生成用于进行无掩膜曝光的复制图案，该筛选方法的特征在于，具备如下步骤：

对所述微镜器件的微镜照射照明光，拍摄来自所述微镜的衍射光分布；

把基于曝光仿真结果的多个衍射光分布的信息与来自所述微镜的衍射光分布的信息进行比较；以及

根据所述比较结果，显示所述微镜器件为合格品或不合格品的信息以及所述衍射光分布的图像。

2.一种微镜器件的筛选方法，该微镜器件生成用于进行无掩膜曝光的复制图案，该筛选方法的特征在于，具备如下步骤：

对所述微镜器件的微镜照射照明光，拍摄来自所述微镜的衍射光分布；

计算按照所述衍射光分布的区域划分的亮度平均值；

根据所述亮度平均值计算所述微镜的评价值；

把所述评价值与阈值进行比较；以及

根据所述比较结果，显示所述微镜器件为合格品或不合格品的信息以及所述衍射光分布的图像。

3.一种微镜器件筛选装置，其对生成用于进行无掩膜曝光的复制图案的微镜器件进行筛选，该微镜器件筛选装置的特征在于，具备：

照明系统，对所述微镜器件的微镜照射照明光；

光学系统，使通过所述微镜产生的衍射光入射到摄像元件；以及

处理系统，其对所述摄像元件拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行所述微镜器件为合格品或不合格品的判定。

4.根据权利要求3所述的微镜器件筛选装置，其特征在于，

具备显示所述衍射光分布图像和所述判定结果的显示系统。

5.根据权利要求3所述的微镜器件筛选装置，其特征在于，

所述照明系统包含楔形玻璃和直角棱镜。

6.一种无掩膜曝光装置，其通过投影透镜把微镜器件生成的图案投影在基板上，该无掩膜曝光装置的特征在于，具备：

照明系统，对所述微镜器件照射照明光；

摄像元件；

平台，使所述基板及所述摄像元件移动；

控制系统，在进行所述微镜器件为合格品或不合格品的判定时，使所述平台移动，使来自所述微镜器件的微镜的衍射光入射到所述摄像元件，控制所述照明系统的光圈的大小；以及

处理系统，对所述摄像元件拍摄到的衍射光分布图像进行处理，根据所述衍射光分布图像的处理结果，进行所述微镜器件为合格品或不合格品的判定。

7.根据权利要求6所述的无掩膜曝光装置，其特征在于，

具备显示所述衍射光分布图像及所述判定结果的显示系统。

8.根据权利要求6所述的无掩膜曝光装置，其特征在于，

在把所述照明系统的准直透镜的焦距设为f，将所述照明光的波长设为λ，将所述微镜器件的微镜的间距设为P时，进行所述微镜器件为合格品或不合格品的判定时的所述照明系统的光圈的半径小于λ·f/P。