[发明专利]转印片及其制造方法有效
申请号: | 201110005932.1 | 申请日: | 2011-01-06 |
公开(公告)号: | CN102205755A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 前田哲宏;奥原进一郎;北村真一;滨井健太 | 申请(专利权)人: | 日本写真印刷株式会社 |
主分类号: | B41M5/00 | 分类号: | B41M5/00;B32B27/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘建 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转印片 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及用于将在基片上层叠的着色层或图案层转印到物品的表面的转印片,特别是涉及具有不从基片剥离的消光(mat)层及被覆该消光层的硬涂层的转印片。
背景技术
一直以来就知道使用转印片对塑料部件、外装品之类的物品的表面进行保护或装饰的方法。转印片是在包括作为支持体的基片的剥离片上设置有转印层的构成,该转印层从基片转印到物品的表面。转印到物品的表面的转印层是树脂或图案以层状层叠的层叠体,在物品表面形成保护被覆或装饰被覆。
基片是转印层的支持构件且也是装饰表面形成构件。这是因为,在转印后,转印层的与基片相接的面成为装饰物品的最外侧面。在要求装饰物品具有无光泽(消光)的外观的情况下,在基片的表面形成细微凹凸。为此,例如在表面形成细微凹凸的消光层被设置在基片的面上。
在转印时,具有细微凹凸的消光层的表面示出脱模性,但消光层自身不从基片剥离。因此,在转印层的成为最外侧的层的表面形成细微凹凸,对装饰物品提供消光的外观。
在对装饰物品的外观要求具有光泽部分及消光部分双方的情况下,在基片的表面的一部分形成消光层。图3是表示在基片的表面的一部分形成消光层的状态的示意性截面图。在基片3的面上有消光层4及光泽区域31存在。
另一方面,在重视针对装饰物品的保护功能的用途中,在转印层的最外侧设置硬涂层。硬涂层是指含有交联树脂且示出高硬度的被覆层。在这样的情况下,硬涂层形成为与基片上的消光层相接,并覆盖消光层。
专利文献1中记载了具有剥离片和转印层的转印片,所述剥离片具有基片及在该基片的面上形成的不从基片剥离的消光层,所述转印层具有被覆该消光层的硬涂层及在该硬涂层的面上形成的图案层及粘接层。
本说明书中所说的“不从基片剥离的消光层”,是指在将转印层转印到被装饰物品上时,不从基片剥离而从转印层剥离的消光层。
专利文献1:JP特开2001-260596
消光层的图形,例如通过印刷用于形成消光层的消光墨液或消光涂料而形成。消光层需要对转印层的最外侧面示出脱模性。因此,消光层优选硬度比转印层的最外侧层高。例如,在转印层的最外侧层为硬涂层的情况下,用于形成消光层的墨液或涂料中含有比硬涂层硬的热固化性树脂。
但是,热固化性树脂具有在进行印刷的过程中吸收热等而使固化(硬化)得以进行的性质。当印刷墨液中所含的树脂发生固化时,墨液的印刷适合性降低,印刷品质也降低。例如在使用含有热固化性树脂的墨液进行凹版(gravure)印刷的情况下,在版的凸部容易残留墨液,版罩及印刷物产生浮垢。
图4是将图3的基片的光泽区域放大的截面图。在基片3的面上,光泽区域31的一部分有浮垢41存在。浮垢41的表面结构被转印到转印层的最外侧面,结果装饰物品的光泽部分的品质降低。
发明内容
本发明解决上述以往的问题,其目的在于,对于具有不从基片剥离的部分消光层及被覆该部分消光层的硬涂层的转印片,即便在基片的光泽区域形成了浮垢的情况下,也能防止其表面结构被转印到转印层的最外侧面。
本发明提供一种具有剥离片和转印层的转印片,所述剥离片具有基片、在该基片的面上的一部分形成的不从基片剥离的消光层、及在该基片和消光层的面上形成的脱模层,所述转印层具有在该脱模层的面上形成的硬涂层。
在某一个实施方式中,上述消光层利用凹版印刷法形成。
在某一个实施方式中,上述消光层含有热固化性树脂。
在某一个实施方式中,上述脱模层的厚度为0.5~20μm。
在某一个实施方式中,上述剥离片还具有在基片和消光层之间形成的基底脱模层。
在某一个实施方式中,上述基底脱模层含有流平剂。
另外,本发明提供一种转印片的制造方法,其包含:
基片的面上的一部分形成不从基片剥离的消光层的工序;
在该基片及消光层的面上形成脱模层的工序;及
在该脱模层的面上形成硬涂层的工序。
(发明效果)
就本发明的转印片而言,在基片的光泽区域形成的浮垢被脱模层所被覆,防止浮垢的表面结构转印到转印层的最外侧面。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的转印片的构成的示意性截面图。
图2是表示本发明的其他实施方式的转印片的构成的示意性截面图。
图3是表示在基片的表面的一部分形成了消光层的状态的示意性截面图。
图4是将图3的基片的光泽区域放大的截面图。
图5是表示在图4的光泽区域形成了脱模层的状态的截面图。
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