[发明专利]一种用于CMP抛光头的气路正压通路系统有效
| 申请号： | 201110002126.9 | 申请日： | 2011-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN102133732A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 张辉;门延武;王同庆;路新春;叶佩青 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 朱琨 |
| 地址： | 100084 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cmp 抛光 正压 通路 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于化学机械抛光头的气路正压通路系统，其特征在于所述系统的每条正压通路由作为压力源的共用气源、正压减压阀、气囊、电控比例阀、开关阀和过滤器依次串联而成，所述正压减压阀的输入端与所述压力源的输出端相连，所述过滤器的输出端与抛光头内腔室的输入端相连，其中，所述电控比例阀设有一个压差信号输入端，所述压差是指所述内部腔室的压力设定值与压力实测值之间的差值，压差大于零，表示向所述内部腔室加压，小于零，表示向所述腔室减压，等于零，表示所述腔室处于稳压状态，所述开关阀，设有一个通断信号输入端，接通表示正压系统工作。
2.如权利要求1所述的任何一种用于化学机械抛光头的气路正压通路系统，其特征在于：所述的过滤器为双向过滤器。
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