[其他]静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，包括： 

基体； 

设置在所述基体上并具有非晶体结构的第一绝缘层； 

设置在所述第一绝缘层上并产生静电力的电极层；以及 

设置在所述电极层上的介电层， 

其中所述介电层包括： 

覆盖所述电极层并具有非晶体结构的第一介电层；以及 

设置在所述第一介电层上并具有晶体结构的第二介电层。 

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一介电层具有大约100μm到大约300μm的厚度，并且所述第二介电层具有大约200μm到大约400μm的厚度。 

3.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一介电层具有大约0.5％到大约2％的孔隙率，并且所述第二介电层具有大约3％到大约7％的孔隙率。 

4.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一介电层具有大约4μm到大约8μm的表面粗糙度(Ra)，并且所述第二介电层具有大约3μm到大约5μm的表面粗糙度(Ra)。 

5.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一和第二介电层具有大约至少650Hv的硬度和大约至少14MPa的粘合强度。 

6.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一和第二介电层具有总和大约10¹⁴Ω·cm到大约10¹⁵Ω·cm的体电阻。 

7.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中所述电极层覆盖有所述第一介电层，所述第一介电层覆盖有所述第二介电层。 

8.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中第一绝缘层具有大约400μm到大约600μm的厚度。 

9.根据权利要求1所述的静电吸盘，还包括夹持在所述基体和所述电极层之间的第二绝缘层。 

10.根据权利要求9所述的静电吸盘，其中所述第一绝缘层具有大约100μm到大约300μm的厚度，并且所述第二绝缘层具有大约200μm到大约400μm的厚度。 

11.一种静电吸盘，其包括： 

基体； 

设置在该基体上的绝缘层； 

设置在该绝缘层上并产生静电力的电极层； 

设在该电极层上并具有非晶体结构的第一介电层；以及 

设置在该第一介电层上并具有晶体结构的第二介电层。