[发明专利]物块、物块的制造方法、粒子射线治疗装置、及治疗计划装置有效
| 申请号: | 201080068437.9 | 申请日: | 2010-11-16 |
| 公开(公告)号: | CN103153397A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
| 发明(设计)人: | 岩田高明 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制造 方法 粒子 射线 治疗 装置 计划 | ||
1.一种物块,
该物块被设置在粒子射线治疗装置中,用于根据被照射部来改变粒子射线的能量分布,其特征在于,
通过以下方式来设定所述物块的形状:即,在该物块的上游侧,在入射到该物块的粒子射线的射束轴上确定第一基准点、以及位于所述第一基准点的下游侧的第二基准点,
以所述第一基准点为起点,利用第一倾斜角和第二倾斜角来定义穿透过所述物块并到达所述被照射部的粒子射线的照射轨道,
所述第一倾斜角是以第一轴为中心、相对于所述射束轴的角度,其中,该第一轴与所述射束轴垂直并包括所述第一基准点,所述第二倾斜角是以第二轴为中心、相对于所述射束轴的角度,其中,该第二轴与所述射束轴及上述第一轴垂直并包括所述第二基准点,
使得在根据所述第一倾斜角与所述第二倾斜角的组合之中的规定范围内的组合而分别定义的照射轨道上的粒子射线在该物块内的路径长度,能补偿从位于所述被照射部的上游侧的体表到所述被照射部的路径长度。
2.如权利要求2所述的物块,其特征在于,以下述方式来设定所述物块的形状:即,
若将第一倾斜角设为α,
将第二倾斜角设为β,
将根据所述第一倾斜角与所述第二倾斜角的组合而定义的照射轨道上的粒子射线在该物块内的路径长度设为LB(α,β),
将根据所述第一倾斜角与所述第二倾斜角的组合而定义的照射轨道上的粒子射线从所述体表到所述被照射部的路径长度设为Lk(α,β),
将与入射到所述物块的粒子射线的能量相当的到达深度设为R,
则使其满足LB(α,β)+LK(α,β)=R的关系。
3.一种物块的制造方法,
制造权利要求1或2所记载的物块的方法,其特征在于,包括:
根据所述第一倾斜角和所述第二倾斜角的各个组合,分别获取从所述体表到所述被照射部的路径长度即体内深度数据的工序;
设定物块的形状以使其成为能够补偿所获得的所述体内深度数据的路径长度的工序;
基于所设定的所述物块的形状,来生成物块的加工数据的工序;以及
基于所生成的所述加工数据,来加工物块的工序。
4.一种粒子射线治疗装置,其特征在于,包括:
照射嘴,该照射嘴通过利用两个电磁铁对所述粒子射线进行扫描以扩大照射野的方式来进行照射,所述两个电磁铁在由加速器提供的粒子束的前进方向上相连、且扫描方向互不相同;以及
物块,该物块配置在从所述照射嘴所照射出的粒子射线中,对所述物块进行配置,以使用于设定该物块的形状的所述第一轴与所述两个电磁铁之中的上游侧的电磁铁的扫描轴相一致,并且使所述第二轴与另一个电磁铁的扫描轴相一致。
5.如权利要求4所述的粒子射线治疗装置,其特征在于,
所述照射嘴利用螺旋摆动法来扩大所述照射野。
6.如权利要求4所述的粒子射线治疗装置,其特征在于,
所述照射嘴利用扫描法来扩大所述照射野。
7.如权利要求4所述的粒子射线治疗装置,其特征在于,
利用使射束轴的方向发生偏转的偏转电磁铁来进行所述两个方向的扫描之中的一个方向的扫描,在假设所述偏转电磁铁的扫描轴通过入射到所述物块的粒子射线在射束轴上的一点的情况下,使所述偏转电磁铁的扫描轴与所述第一轴或所述第二轴相一致。
8.一种治疗计划装置,其特征在于,包括:
三维数据生成单元,该三维数据生成单元基于包括所述被照射部的照射对象的图像数据来生成三维数据;
照射条件设定单元,该照射条件设定单元基于所生成的三维数据来设定照射条件;以及
物块数据生成单元,该物块数据生成单元基于所设定的照射条件,生成权利要求4至7中任一项所述的粒子射线治疗装置中的物块的形状数据,
所述三维数据生成单元至少利用由所述上游侧的电磁铁扫描而得到的所述第一倾斜角、以及由所述另一个电磁铁扫描而得到的所述第二倾斜角,来生成所述三维数据。
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