[发明专利]含有汞离子的液体的处理方法及汞离子吸附材料无效
| 申请号: | 201080067374.5 | 申请日: | 2010-11-08 |
| 公开(公告)号: | CN102933500A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
| 发明(设计)人: | 赵龙;许零 | 申请(专利权)人: | 日新电机株式会社 |
| 主分类号: | C02F1/28 | 分类号: | C02F1/28;C02F1/42 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 含有 离子 液体 处理 方法 吸附 材料 | ||
1.一种含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,其包括使颗粒状吸附材料与含有汞离子的液体接触的工序,所述颗粒状吸附材料是向颗粒状的基材上导入接枝链而成的,所述接枝链是使用含有(甲基)丙烯酸二烷基氨基烷基酯的单体进行聚合而得到的。
2.根据权利要求1所述的含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,所述(甲基)丙烯酸二烷基氨基烷基酯为选自由(甲基)丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯和(甲基)丙烯酸2-(二丁基氨基)乙酯组成的组中的至少一种单体。
3.根据权利要求1或2所述的含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,所述颗粒状的基材为经硅烷化处理的无机微粒。
4.根据权利要求3所述的含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,所述硅烷化处理为在所述无机微粒的表面形成有机基团。
5.根据权利要求3或4所述的含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,所述无机微粒为二氧化硅微粒。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的含有汞离子的液体的处理方法,其特征在于,其包括:在使所述颗粒状吸附材料与含有汞离子的液体接触之前,将含有汞离子的液体的pH调整为酸性的pH调整工序。
7.一种汞离子吸附材料,其特征在于,其是向颗粒状的基材上导入接枝链而成的,所述接枝链是使用含有(甲基)丙烯酸二烷基氨基烷基酯的单体进行聚合而得到的。
8.根据权利要求7所述的汞离子吸附材料,其特征在于,所述(甲基)丙烯酸二烷基氨基烷基酯为选自由(甲基)丙烯酸2-(二甲基氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(二乙基氨基)乙酯和(甲基)丙烯酸2-(二丁基氨基)乙酯组成的组中的至少一种单体。
9.根据权利要求7或8所述的汞离子吸附材料,其特征在于,所述颗粒状的基材为经硅烷化处理的无机微粒。
10.根据权利要求9所述的汞离子吸附材料,其特征在于,所述无机微粒为二氧化硅微粒。
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