[发明专利]涂布用组合物及其制造方法以及使用该涂布用组合物的涂膜的形成方法无效

专利信息
申请号: 201080066166.3 申请日: 2010-12-21
公开(公告)号: CN102844388A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 中野贵志;藤田智行;山本博志;森泽义富;代田直子 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C09D127/18 分类号: C09D127/18;C09D123/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 刘多益
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 涂布用 组合 及其 制造 方法 以及 使用 形成
【权利要求书】:

1.一种涂布用组合物,该涂布用组合物含有具有基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元的含氟共聚物的微粒、以及在所述含氟共聚物的熔点以下的温度下能溶解该含氟共聚物的溶剂,其特征在于,所述含氟共聚物的微粒是从使含氟共聚物溶解于所述溶剂而得的溶液中析出的微粒,并且分散在所述溶剂中。

2.如权利要求1所述的涂布用组合物,其特征在于,所述溶剂的沸点为40℃以上210℃以下。

3.如权利要求1或2所述的涂布用组合物,其特征在于,以下式(1)表示且根据汉森溶解度参数算出的所述溶剂对所述含氟共聚物的溶解指标(R)小于25;

R=4×(δd-15.7)2+(δp-5.7)2+(δh-4.3)2…(1)

式(1)中,δd、δp和δh分别表示汉森溶解度参数中的色散项、极性项和氢键项,单位均为(MPa)1/2

4.如权利要求1~3中任一项所述的涂布用组合物,其特征在于,构成所述含氟共聚物的基于四氟乙烯和乙烯以外的共聚单体的重复单元的比例在全部单体重复单元中为0.1~50摩尔%。

5.如权利要求1~4中任一项所述的涂布用组合物,其特征在于,所述含氟共聚物是具有选自羧酸基、酸酐基和酰卤基的至少一种基团的含氟共聚物。

6.如权利要求1~5中任一项所述的涂布用组合物,其特征在于,以在20℃下通过小角X射线散射法测得的平均粒径计,所述含氟共聚物的微粒的平均粒径在0.005~2μm的范围内。

7.涂布用组合物的制造方法,其特征在于,包括:将具有基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元的含氟共聚物溶解于在所述含氟共聚物的熔点以下的温度下能溶解该含氟共聚物的溶剂,制成溶液的工序;以及在所述溶液中,使所述含氟共聚物以微粒的形式在所述溶剂中析出,将所述溶液制成由该微粒分散在所述溶剂中而得的分散液的工序。

8.如权利要求7所述的涂布用组合物的制造方法,其特征在于,在40℃以上所述含氟共聚物的熔点以下的温度下进行所述溶解,通过冷却进行所述析出。

9.涂膜的形成方法,其特征在于,包括:组合物涂布工序,该工序中,将权利要求1~6中任一项所述的涂布用组合物涂布于基材,形成含有溶剂的涂膜;以及溶剂除去工序,该工序中,从所述含有溶剂的涂膜中除去溶剂,制成不含溶剂的涂膜。

10.如权利要求9所述的涂膜的形成方法,其特征在于,在低于所述含氟共聚物溶解于所述溶剂的温度的温度下,进行所述组合物涂布工序中的将所述涂布用组合物涂布于基材的步骤。

11.如权利要求9或10所述的涂膜的形成方法,其特征在于,在0~350℃的温度下进行所述溶剂除去工序中的除去溶剂的步骤。

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