[发明专利]液晶取向处理剂及使用该处理剂的液晶显示元件有效

专利信息
申请号: 201080063462.8 申请日: 2010-12-13
公开(公告)号: CN102754020A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 野田尚宏;小田拓郎;筒井皇晶 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C08G73/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 取向 处理 使用 液晶显示 元件
【说明书】:

技术领域

本发明涉及液晶显示元件所用的液晶取向处理剂、液晶取向膜和液晶显示元件。

背景技术

目前,作为液晶显示元件的液晶取向膜,主要使用所谓的聚酰亚胺系液晶取向膜,该液晶取向膜通过涂布以聚酰胺酸等聚酰亚胺前体或可溶性聚酰亚胺的溶液为主要成分的液晶取向处理剂并进行烧成、接着实施摩擦处理而获得。

液晶取向膜不仅控制液晶的取向状态,对液晶显示元件的特性也有影响。尤其是减小摩擦处理时的膜剥离、损耗的问题,抑制伴随着液晶显示元件的高精细化而发生的液晶显示元件的对比度下降或减少残影现象的特性日趋重要。

聚酰亚胺系液晶取向膜中,作为由直流电压产生的残影消失所需的时间短的液晶取向膜,已知使用除了聚酰胺酸和含酰亚胺基的聚酰胺酸以外还含有特定结构的叔胺的液晶取向处理剂的液晶取向膜(例如参照专利文献1)以及使用含有将具有吡啶骨架等的特定二胺用作原料的可溶性聚酰亚胺的液晶取向处理剂的液晶取向膜(例如参照专利文献2)等。

此外,聚酰亚胺系液晶取向膜中,作为电压保持率高且由直流电压产生的残影消失所需的时间短的液晶取向膜,已知使用下述液晶取向处理剂的液晶取向膜:该液晶取向处理剂除了含有聚酰胺酸或其酰亚胺化聚合物等以外,还含有极少量的选自分子内含有1个羧酸酐基的化合物和分子内含有1个叔氨基的化合物的化合物(例如参照专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开平9-316200号公报

专利文献2:日本专利特开平10-104633号公报

专利文献3:日本专利特开平8-76128号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明鉴于上述情况,其目的是提供一种液晶取向处理剂,该液晶取向处理剂能获得对摩擦时的膜剥离和损耗的耐受性强、电压保持率高、且即使对液晶晶胞施加直流电压也不易发生初始的电荷积蓄的液晶取向膜。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明人进行了认真研究,结果发现,包含使用含有新型化合物的特定的二胺化合物作为二胺成分的聚酰胺酸和/或将该聚酰胺酸酰亚胺化而得的聚酰亚胺的液晶取向处理剂对于上述目的的实现是极为有效的,从而完成了本发明。即,本发明具有以下要点。

(1)一种液晶取向处理剂,其特征在于,含有选自聚酰胺酸和将该聚酰胺酸酰亚胺化而得的聚酰亚胺的至少一种聚合物,所述聚酰胺酸通过使含有下式[1]表示的二胺化合物的二胺成分与四羧酸二酐成分反应而得;

【化1】

式[1]中,Ar表示同素环芳香族化合物或含氮原子的杂环芳香族化合物,构成环的碳原子上或氮原子上的氢原子可被取代。

(2)上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,式[1]的Ar是六元环的同素环芳香族化合物或六元环的含氮原子的杂环芳香族化合物。

(3)上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,式[1]的Ar是五元环的含氮原子的杂环芳香族化合物。

(4)上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,式[1]的Ar是苯、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪或三嗪。

(5)上述(1)记载的液品取向处理剂,其中,式[1]的Ar是唑、二唑、噻唑、噻二唑、吡咯、咪唑、吡唑或三唑。

(6)上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,式[1]表示的二胺化合物是下述通式[4]~[6]表示的任一种化合物,其中,Ar表示与上述相同的含义;

【化2】

(7)上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,式[1]表示的二胺化合物是下述通式[2]表示的化合物,其中,Ar表示与上述相同的含义;

【化3】

(8)上述(1)~(7)中任一项记载的液品取向处理剂,其中,作为二胺成分,包含至少10摩尔%以上的下式[3]表示的二胺化合物;

H2N-Ar’-R1-NH-R2  [3]

式[3]中,Ar’表示亚苯基、亚萘基,R1表示C为1~5的亚烷基,R2表示C为1~5的烷基。

(9)上述(1)~(8)中任一项记载的液品取向处理剂,其中,四羧酸二酐成分包含具有脂环族结构或脂肪族结构的四羧酸二酐。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社,未经日产化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080063462.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top