[发明专利]用于臭氧处理设备的排氧再循环装置和具有该装置的臭氧利用系统

权利要求书

1.一种用于臭氧处理设备的排氧再循环装置，该装置用来对所述臭氧处理设备中的反应结束之后要被排到空气中的排出的含氧气体进行提纯，并且所述装置用来使经提纯的含氧气体再循环以产生臭氧，所述装置包括：

杂质去除单元，该杂质去除单元用于从包含在排气中的成分去除杂质，该杂质倾向于被认为是臭氧发生器中的杂质；和

压缩机，该压缩机用于将所述排气和/或提纯气体压缩到这样的压力，在该压力下所述排气和/或所述提纯气体能被供应到所述臭氧发生器，所述提纯气体通过利用所述杂质去除单元从所述排气去除所述杂质而获得。

2.根据权利要求1所述的排氧再循环装置，其中，所述杂质去除单元去除倾向于被认为是所述臭氧发生器中的杂质的水、CO₂、CH₄和N₂。

3.根据权利要求2所述的排氧再循环装置，其中，所述杂质去除单元包括：水去除单元，该水去除单元用于通过利用活性氧化铝和沸石吸附水来从所述排气去除水；CO₂和CH₄去除单元，该CO₂和CH₄去除单元用于通过利用活性炭吸附CO₂和CH₄来从所述排气去除CO₂和CH₄；以及N₂去除单元，该N₂去除单元用于通过利用沸石吸附N₂来从所述排气去除N₂。

4.根据权利要求3所述的排氧再循环装置，其中，所述杂质去除单元包括至少一个柱形吸附塔；并且所述柱形吸附塔顺序地从其底部到其顶部装填有用在所述水去除单元中的活性氧化铝和沸石、用在所述CO₂和CH₄去除单元中的活性炭以及用在所述N₂去除单元中的沸石。

5.根据权利要求3所述的排氧再循环装置，其中，所述杂质去除单元还包括H₂S去除单元，该H₂S去除单元用于通过注水来从所述排气去除H₂S。

6.一种臭氧利用系统，该臭氧利用系统设置有臭氧处理设备以实现预定目的，所述臭氧利用系统包括权利要求1至5中的任一项所述的排氧再循环装置，其中，所述排氧再循环装置从在所述臭氧处理设备中的反应结束之后要被排到空气中的排气中所包含的成分中去除杂质，所述杂质倾向于被认为是臭氧发生器中的杂质，接着所述排氧再循环装置将经提纯的排气以期望的压力供应到所述臭氧发生器。

7.根据权利要求6所述的臭氧利用系统，其中，所述臭氧利用系统是水处理系统、消化系统、漂白系统、消毒系统、杀菌系统或半导体设备系统。

8.根据权利要求6所述的臭氧利用系统，其中，所述臭氧利用系统包括臭氧接触器，该臭氧接触器用于使原水接触从所述臭氧发生器供应的臭氧。

9.根据权利要求6所述的臭氧利用系统，其中，所述臭氧处理设备包括溶解单元，该溶解单元用于利用从所述臭氧发生器供应的臭氧溶解从厌氧消化池排出的污泥，并接着使所溶解的污泥循环到所述厌氧消化池中。