[发明专利]硬成像设备和硬成像设备操作方法

权利要求书

1.一种硬成像设备，其包括：

笔30，其邻近于介质路径16的第一位置，且被配置成在朝着沿着所述介质路径16移动的介质22的方向上喷射液体标记剂的多个微滴32以便使用所述介质22形成硬图像，从所述笔30喷射所述液体标记剂的所述微滴32产生了所述液体标记剂的浮质微滴34；以及

气体注入系统50，其邻近于所述介质路径16的第二位置，其在相对于沿着所述介质路径16的所述介质22的移动方向而言从所述第一位置起的下游，并且其中所述气体注入系统50被配置成朝着所述介质注入气体。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述气体注入系统被配置成注入所述气体以提供与缺少所述注入的气体相比在所述硬成像设备10的至少一个部件40上的所述浮质微滴34的减少的污染。

3.根据权利要求2所述的设备，进一步包括加热器64，其被配置成提供热以减少在所述至少一个部件40上的蒸汽的冷凝。

4.根据权利要求1所述的设备，进一步包括浮质微滴去除系统70，其被定位在从所述第一位置起的下游的另一位置处，且被配置成从邻近于所述介质路径16的区域去除所述浮质微滴34中的至少一些。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述气体的所述注入产生至少一个界线层24或25，其阻止所述浮质微滴34中的至少一些的移动。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述气体的注入在所述介质路径16和所述硬成像设备的至少一个部件40之间产生第一和第二界线层24,25，并且与缺少所述注入的气体相比，所述第一和第二界线层减少了在所述硬成像设备10的至少一个部件40上的所述浮质微滴34的污染。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述气体注入系统50以及所述笔30被定位在邻近于所述介质路径16的共同侧，并且所述气体注入系统50被定位在紧邻近于在所述第一位置处的所述笔30的所述第二位置处。

8.一种硬成像设备，其包括：

笔30，其邻近于介质路径16的第一位置，且被配置成在朝着沿着所述介质路径16移动的介质22的方向上喷射液体标记剂的多个微滴32以便使用所述介质22形成硬图像；以及

气体注入系统50，其邻近于所述介质路径16的第二位置，其在相对于沿着所述介质路径16的所述介质22的移动方向而言从所述第一位置起的下游，并且所述气体注入系统50被配置成注入气体以产生邻近于所述介质路径16的至少一个界线层24或25。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述微滴32的喷射产生所述液体标记剂的多个浮质微滴34，并且所述气体注入系统50被配置成注入所述气体以产生所述至少一个界线层24或25，以提供与缺少所述注入的气体相比在从所述笔30起的下游的所述硬成像设备10的至少一个部件40上的所述浮质微滴34的减少的污染。

10.根据权利要求9所述的设备，进一步包括浮质微滴去除系统70，其被定位在从所述第一位置起的下游的位置处，且被配置成从邻近于所述介质路径22的区域去除所述浮质微滴34中的至少一些。

11.根据权利要求8所述的设备，其中所述微滴32的所述喷射产生所述液体标记剂的多个浮质微滴34，并且所述至少一个界线层24或25阻止所述浮质微滴34中的至少一些的移动。

12.根据权利要求8所述的设备，其中所述气体的所述注入产生邻近于所述介质路径16的多个界线层24，25。

13.一种硬成像设备操作方法，其包括：

沿着介质路径16移动介质22；

在沿着所述介质路径16的第一位置处，在朝着所述介质22的方向上喷射液体标记剂的多个微滴32以便使用所述介质22形成硬图像，所述喷射产生了所述液体标记剂的多个浮质微滴34；以及

在沿着所述介质路径16的、在相对于沿着所述介质路径16的所述介质22的移动方向而言从所述第一位置起的下游的第二位置处，朝着所述介质路径16注入气体，以减少与缺少所述气体的注入相比由在所述硬成像设备10的至少一个部件40上的所述浮质微滴34产生的污染。

14.根据权利要求13所述的方法，进一步包括，在从所述第一位置起的下游的另一位置处，从邻近于所述介质路径16的区域去除所述浮质微滴34中的至少一些。

15.根据权利要求13所述的方法，其中所述注入所述气体产生至少一个界线层24或25，其阻止所述浮质微滴34中的至少一些移动到所述至少一个部件40。