[发明专利]具有可调节的机械模量Guv的光聚合物配制品有效

专利信息
申请号: 201080060565.9 申请日: 2010-10-29
公开(公告)号: CN102792377A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: M-S·魏泽;T·罗勒;F-K·布鲁德;T·费克;D·赫内尔 申请(专利权)人: 拜尔材料科学股份公司
主分类号: G11B7/245 分类号: G11B7/245;G03F7/027;G03H1/00;G11B7/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国莱*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 调节 机械 sub uv 聚合物 配制
【权利要求书】:

1.用于制备曝光的全息介质的方法,所述全息介质包含具有0.1至160MPa之间范围的模量GUV和Δn≥0.008的光聚合物配制品,其中

i.提供光聚合物配制品,其包含

A)作为无定形网络的基质聚合物

B)单官能书写单体和多官能书写单体的组合

C)光引发剂体系

D)任选的不可光聚合的组分

E)任选催化剂、自由基稳定剂、溶剂、添加剂和其它助剂和/或添加物,

ii.使所述光聚合物配制品形成介质形式

iii.对所述介质进行全息曝光实验以记录全息图,和

iv.使整个介质暴露在紫外线辐射下以固定所述全息图,

其中所述书写单体是丙烯酸酯-和/或甲基丙烯酸酯-官能化化合物,在所述光聚合物配制品中书写单体的总含量≥30重量%和≤45重量%,未曝光的光聚合物配制品具有<0.7MPa的模量G0,并且在0.1至160MPa的预设范围内通过单官能书写单体的相对比例与多官能书写单体的相对比例对总书写单体含量的比率如此调节曝光的光聚合物配制品的模量GUV,使得高模量通过多官能书写单体对总书写单体含量的高相对比例实现和低模量通过单官能书写单体对总书写单体含量的高相对比例得以实现。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于所述曝光的全息介质具有0.3至40之间,优选0.7至15MPa之间范围的模量GUV

3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于,如此选择书写单体和基质聚合物,使得两种书写单体各自的折射率比基质聚合物的折射率大至少0.05单位,或两种书写单体各自的折射率比基质聚合物的折射率小至少0.05单位。

4.根据权利要求1至3的任一项的方法,其特征在于,所述基质聚合物是尤其通过带NCO基团的组分和NCO反应性组分反应的聚氨酯,其中这两种组分的至少一种具有大于200g/mol,优选大于350g/mol的当量重量,并且此外优选在聚合物骨架中不出现环状结构。

5.根据权利要求4的方法,其特征在于,所述聚氨酯在完全反应状态下具有<-45℃的玻璃化温度TG

6.根据权利要求1至5任一项的方法,其特征在于,所述单官能书写单体具有通式(II)

其中R1、R2是氢和/或彼此独立地是直链的、支链的、环状的或杂环的未取代或任选也用杂原子取代的有机残基,且所述单官能书写单体优选具有<15℃的玻璃化温度TG

7.根据权利要求1至6任一项的方法,其特征在于,所述多官能书写单体具有通式(III)

其中n≥2且n≤4,且R3、R4是氢和/或彼此独立地是直链的、支链的、环状的或杂环的未取代或任选也用杂原子取代的有机残基,并且所述多官能书写单体优选具有nD20>1.50的折射率。

8.根据权利要求1至7任一项的方法,其特征在于,所述光聚合物配制品另外含有增塑剂。

9.根据权利要求8的方法,其特征在于,如此选择所述增塑剂,使得如果这两种书写单体都具有比基质聚合物高的折射率,则该增塑剂的折射率比基质聚合物的折射率小至少0.05单位,如果这两种书写单体都具有比基质聚合物的折射率小的折射率,则该增塑剂的折射率比基质聚合物的折射率大至少0.05单位。

10.根据权利要求8或9任一项的方法,其特征在于,所用增塑剂是通式(VI)的氨基甲酸乙酯

其中n≥1且n≤8,且R10、R11、R12是氢和/或彼此独立地是直链的、支链的、环状或杂环的未取代或任选也被杂原子取代的有机残基,其中优选基团R10、R11、R12的至少一个用至少一个氟原子取代且特别优选R10是具有至少一个氟原子的有机残基。

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