[发明专利]具有不同书写共聚单体的光聚合物制剂有效

专利信息
申请号: 201080060489.1 申请日: 2010-11-02
公开(公告)号: CN102667935A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: M-S.魏泽;F-K.布鲁德;T.罗勒;T.费克;D.赫内尔;J.霍夫曼 申请(专利权)人: 拜尔材料科学股份公司
主分类号: G11B7/245 分类号: G11B7/245;C08G18/28;G03F7/027;G03H1/00;G11B7/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国莱*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 不同 书写 共聚 单体 聚合物 制剂
【权利要求书】:

1. 光聚合物制剂,其包含基质聚合物、至少两种不同的书写单体的组合和光引发剂,其中所述基质聚合物是聚氨酯,其特征在于所述书写单体各自在405纳米波长下测得的折射率nD20相差不大于0.200,并在每一情况下具有≥ 1.45的在405纳米波长测得的折射率nD20

2. 根据权利要求1的光聚合物制剂,其特征在于所述书写单体各自在405纳米波长下测得的折射率nD20相差不大于0.100,特别是不大于0.065,并在每一情况下具有≥ 1.50,特别优选≥ 1.55的在405纳米波长测得的折射率nD20

3. 根据权利要求1或2的光聚合物制剂,其特征在于所述书写单体是丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯,优选氨基甲酸酯丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯。

4. 根据权利要求3的光聚合物制剂,其特征在于所述书写单体是单、二、三和/或更多官能的。

5. 根据权利要求4的光聚合物制剂,其特征在于其含有单官能和多官能,特别是二或三官能书写单体的组合,或二和三官能书写单体的组合。

6. 根据权利要求1至5任一项的光聚合物制剂,其特征在于所述基质聚合物是能通过使异氰酸酯组分a)与异氰酸酯反应性组分b)反应获得的聚氨酯。

7. 根据权利要求1至6任一项的光聚合物制剂,其特征在于所述光引发剂是能通过光化辐射活化的引发剂。

8. 根据权利要求1至7任一项的光聚合物制剂,其特征在于其含有增塑剂。

9. 根据权利要求8的光聚合物制剂,其特征在于所述增塑剂是氨基甲酸酯和/或氟代氨基甲酸酯。

10. 根据权利要求9的光聚合物制剂,其特征在于所述氨基甲酸酯具有通式IV

 式IV

其中n≥1且n≤8和R3、R4、R5是氢和/或彼此独立地,未取代或任选也被杂原子取代的线型、支化、环状或杂环有机残基,其中优选地,基团R3、R4、R5的至少一个被至少一个氟原子取代,且R3特别优选是具有至少一个氟原子的有机残基。

11. 根据权利要求1至10任一项的光聚合物制剂,其特征在于其含有10至89.999重量%,优选25至70重量%的基质聚合物、10至60重量%,优选25至50重量%的书写单体、0.001至5重量%的光引发剂和任选0至4重量%,优选0至2重量%的催化剂、0至5重量%,优选0.001至1重量%的自由基稳定剂、0至30重量%,优选0至25重量%的增塑剂和0至5重量%,优选0.1至5重量%的其它添加剂,所有成分的总和为100重量%。

12. 根据权利要求1至11任一项的光聚合物制剂用于制造光学元件,特别是用于制造全息元件和图像的用途。

13. 根据权利要求1至12任一项的光聚合物制剂的制备方法,其中混合基质聚合物、书写单体、光引发剂、任选的增塑剂和任选的其它添加剂以产生光聚合物制剂。

14. 使根据权利要求1至11任一项的光聚合物制剂的全息介质曝光的方法,其中通过电磁辐射使所述书写单体选择性聚合。

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