[发明专利]光学特性测量方法、曝光方法及组件制造方法无效
申请号: | 201080060408.8 | 申请日: | 2010-11-17 |
公开(公告)号: | CN102696095A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 小杉润一;蛭川茂;近藤尚人 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李今子 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 特性 测量方法 曝光 方法 组件 制造 | ||
1.一种光学特性测量方法,测量使配置在第1面上的图案的像产生在第2面上的光学系统的光学特性,其特征在于,包含:
一边在所述光学系统的光轴方向变更配置在所述光学系统的所述第2面侧的物体的位置、一边使以既定方向为测量方向的测量用图案经由所述光学系统依序转印至所述物体上,在所述物体上产生多个包含所述测量用图案的像的划分区域的动作;
拍摄所述物体上的多个划分区域之中既定数的划分区域,取出关于产生在拍摄后的所述既定数的各划分区域的所述测量用图案的像之中、除了与所述测量方向交叉的非测量方向的两端部以外的至少一部分的像的拍摄数据的动作;以及
使用所述取出的拍摄数据就所述既定数的各划分区域算出关于各像素的亮度值的所述测量方向的评估量,且根据关于算出的所述多个各划分区域的所述评估量求出所述光学系统的光学特性的动作。
2.一种光学特性测量方法,测量使配置在第1面上的图案的像产生在第2面上的光学系统的光学特性,其特征在于,包含:
一边在所述光学系统的光轴方向变更配置在所述光学系统的所述第2面侧的物体的位置、一边使以既定方向为测量方向的测量用图案经由所述光学系统依序转印至所述物体上的多个区域以分别产生所述测量用图案的像的动作;
对所述多个区域分别进行用以除去产生的所述测量用图案的像的所述非测量方向的两端部的修正曝光的动作;
拍摄分别包含所述非测量方向的两端部除去后的所述测量用图案的像的物体上的多个划分区域之中既定数的划分区域的动作;以及
处理所述拍摄所得的拍摄数据,就拍摄后的所述既定数的各划分区域算出关于各像素的亮度值的所述测量方向的评估量,且根据关于算出的所述既定数的各划分区域的所述评估量求出所述光学系统的光学特性的动作。
3.如权利要求1或2项所述的光学特性测量方法,其中,所述测量用图案的所述非测量方向的长度比所述测量方向的宽度长。
4.如权利要求1至3项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,所述评估量包含与所述测量用图案在所述测量方向的扩张对应的量。
5.如权利要求4项所述的光学特性测量方法,其中,所述与扩张对应的量包含所述测量用图案的面积。
6.如权利要求1至3项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,所述评估量包含所述测量用图案的对比。
7.如权利要求1至6项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,所述测量用图案包含排列于所述测量方向的延伸于与所述测量方向正交的非测量方向的多个图案。
8.如权利要求7项所述的光学特性测量方法,其中,所述多个图案分别由排列于所述测量方向的延伸于所述非测量方向的多个细微图案的集合构成。
9.如权利要求1至8项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,在产生所述测量用图案的像时,以至少包含所述物体在所述光轴方向的位置的共通曝光条件在所述多个区域内的不同位置产生多个所述测量用图案的像。
10.如权利要求1至9项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,所述光学特性包含所述光学系统的最适焦点位置。
11.如权利要求10项所述的光学特性测量方法,其中,所述光学特性进一步包含所述光学系统的非点像差。
12.如权利要求1至11项中任一项所述的光学特性测量方法,其中,进一步包含在产生所述测量用图案的像时,一边进一步变更对所述物体的曝光剂量、一边将所述测量用图案转印至所述物体上,并根据所述评估量求出最适曝光剂量的动作。
13.一种曝光方法,包含:
使用权利要求1至12项中任一项所述的光学特性测量方法测量光学系统的光学特性的动作;以及
考虑该光学特性的测量结果,调整所述光学系统的光学特性及所述物体在所述光学系统的光轴方向的位置的至少一方,在所述既定面上经由所述光学系统产生既定图案的像以使物体曝光的动作。
14.一种组件制造方法,包含:
通过权利要求13项所述的曝光方法使物体曝光的动作;以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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