[发明专利]制造图案化干燥聚合物的方法和图案化干燥聚合物

权利要求书

1.由聚合物溶液或聚合物分散体制造图案化干燥聚合物的方法，所述方法包括以下步骤：将掩模置于所述聚合物溶液/分散体上方，使得存在聚合物溶液/分散体暴露区域和聚合物溶液/分散体未暴露区域，并用红外射线辐射所述掩蔽的聚合物溶液/分散体。

2.权利要求1的方法，其中所述图案化干燥聚合物由呈胶乳形式的聚合物分散体制造。

3.权利要求2的方法，其中所述胶乳是T_g为20°C至100°C的硬胶乳。

4.权利要求2的方法，其中所述胶乳是T_g为-50°C至20°C的软胶乳。

5.根据任一前述权利要求的方法，其中所述暴露条件使得所述聚合物的温度高于它的玻璃化转变温度。

6.权利要求5的方法，其中所述暴露条件使得所述聚合物的温度高于它的玻璃化转变温度至少15°C。

7.根据任一前述权利要求的方法，其中所述红外射线的波长为0.7μm-30μm，更优选为0.7μm-1.8μm。

8.根据任一前述权利要求的方法，其中所述红外射线的波长与聚合物具有最大吸收系数或水强烈吸收红外射线的波长基本相同。

9.权利要求2-8中的任一项的方法，其中将掩蔽的胶乳暴露于所述红外射线，直到所述胶乳完全干燥。

10.权利要求2-9中的任一项的方法，其中所述胶乳与红外源的距离为1-100cm，更优选为5-30cm，并且最优选为15-20cm。

11.权利要求2-10中的任一项的方法，其中所述胶乳为涂层的形式，以及所述干燥涂层的厚度为0.5μm-1cm厚，更优选为2μm-1mm厚，并且最优选为10μm-300μm厚。

12.权利要求2-11中的任一项的方法，其中所述胶乳的固体含量为10重量%-80重量%，优选为30重量%-60重量%，并且最优选为45重量%-55重量%。

13.根据任一前述权利要求的方法，其中在所述胶乳和所述掩模之间的距离为0.01mm-10cm，优选为0.1mm-10mm，更优选为0.2-3mm。

14.根据任一前述权利要求的方法，其中所述掩模具有孔，所述孔的直径为0.01mm-10cm，优选为0.1mm-1cm，并且更优选为0.5mm-5mm。

15.根据任一前述权利要求的方法，其中所述掩模具有孔，所述孔为正方形、圆形、椭圆形、三角形、矩形、菱形、多边形或为标识语形状。

16.根据任一前述权利要求的方法，其中所述掩模的尺寸为1mm-10m，优选为1cm-1m，并且最优选为1cm-20cm。

17.权利要求2-16中的任一项的方法，其中所述掩模完全覆盖所述胶乳。

18.权利要求2-17中的任一项的方法，其中所述掩模由阻碍所述红外射线传输的材料制成。

19.权利要求2-18中的任一项的方法，其中所述胶乳流延在由玻璃、钢材、铝、金属合金、塑料、卡片或木材制成的基体上。

20.权利要求19的方法，当从属于权利要求4时，其中将所述胶乳从所述基体除去以制造自立膜。

21.权利要求2-20中的任一项的方法，其中所述胶乳包含两种或更多种胶乳的混合物，每种具有不同的平均粒度。

22.权利要求2-21中的任一项的方法，其中所述胶乳包含下列中的一种或多种：金属纳米粒子、半导体粒子、有色粒子、荧光粒子、另外的红外吸收剂。

23.基本上如本申请所述或如实施例中所示的由聚合物溶液或聚合物分散体制造图案化聚合物的方法。

24.通过权利要求1-23中的任一项的方法制备的图案化干燥聚合物。

25.根据实施例中的任何一个的图案化干燥聚合物。