[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，一边沿第一方向搬运形成有格子状的遮光层的基板，一边在上述基板上形成用于构成彩色滤光片的着色像素，该曝光方法中，

将具有多个开口的光掩膜和涂布有光阻剂的基板配置成与重复进行开灯及熄灯的闪亮式光源相对；

一边沿上述第一方向连续地搬运上述基板，一边使上述闪亮式光源闪亮，间歇地进行多次曝光；

每次曝光时，使上述光掩膜沿与上述第一方向正交的第二方向移动，从而进行上述光掩膜与上述基板之间的对位；

对上述闪亮式光源的闪亮间隔进行控制，以在每次曝光时，使上述光掩膜的上述多个开口的一部分与、上一次曝光时通过上述光掩膜的开口而曝光的曝光图案的一部分重叠；

上述光掩膜的一个开口在上述第一方向上的宽度与、上述遮光层所包围的一个开口区域在上述第一方向上的宽度之差，大于上述光掩膜的一个开口在上述第二方向上的宽度与、上述遮光层所包围的一个开口区域在上述第二方向上的宽度之差。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

上述基板是TFT基板，该TFT基板包含多个薄膜晶体管、多条栅极布线、及在与上述栅极布线正交的方向上延伸且线宽比上述栅极布线细的多条源极布线；

使上述TFT基板相对于上述光掩膜而配置，以使上述源极布线的延伸方向与上述第一方向平行。

3.根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于：

上述多个开口是条纹状；

在每次曝光时，在各列中，上一次曝光时所曝光的曝光图案与上述开口部分重叠。

4.根据权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于：

上述多个开口是排列于上述第一方向及上述第二方向上的行列状；

在上述每次曝光时，在各列中，上述多个开口中的部分开口与、上一次曝光时通过上述多个开口而曝光的曝光图案中的部分曝光图案重叠。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光方法，其特征在于：

上述基板是矩形形状；

上述基板的搬运是在只有上述基板的、沿上述第一方向的一边固定于搬运装置的状态下进行的。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的彩色滤光片基板的曝光方法，其特征在于：

在上述闪亮式光源的熄灯期间内，进行上述光掩膜与上述基板在上述第二方向上的对位。

7.一种彩色滤光片的制造方法，是在形成有格子状的遮光层的基板上形成着色像素的彩色滤光片的制造方法，该制造方法中，

对应于上述着色像素的颜色数量相应地重复进行使用了权利要求1所述的曝光方法的曝光处理、及对经过上述曝光处理的上述基板进行显像、烧成的处理。

8.一种曝光装置，一边沿第一方向搬运形成有格子状的遮光层的基板，一边在上述基板上形成用于构成彩色滤光片的着色像素，具备：

闪亮式光源，重复进行开灯及熄灯；

光掩膜，具有多个开口；

基板搬运装置，沿第一方向连续地搬运涂布有光阻剂的上述基板；

图像识别装置，根据上述光掩膜和上述基板的拍摄图像，来检测上述光掩膜与上述基板之间的相对位置关系；

对位部，在每次曝光时，根据上述图像识别装置所检测到的位置关系，使上述光掩膜沿与上述第一方向正交的第二方向移动，来进行上述光掩膜与上述基板之间的对位；及

闪亮间隔调整部，对上述闪亮式光源的闪亮间隔进行调整，以在每次曝光时，使上述光掩膜的开口的一部分与上一次曝光时通过该开口而曝光的曝光图案的一部分重叠；

上述光掩膜的一个开口在上述第一方向上的宽度与、上述遮光层所包围的一个开口区域在上述第一方向上的宽度之差，大于上述光掩膜的一个开口在上述第二方向上的宽度与、上述遮光层所包围的一个开口区域在上述第二方向上的宽度之差。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于：

上述基板是矩形形状；

上述基板搬运装置包括，

搬运轴，在上述第一方向上延伸，以及

固定机构，仅将上述基板的沿上述第一方向的一边固定于上述搬运轴。

10.根据权利要求8或9所述的曝光装置，其特征在于：

上述移动机构在上述闪亮式光源的熄灯期间内，根据上述图像识别装置所检测到的位置关系，进行上述光掩膜与上述基板在上述第二方向上的对位。