[发明专利]光掩模

权利要求书

1.一种光掩模，其特征在于，具有：

掩模基板，其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案；

微型透镜阵列，其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜，并在另一透明基板的另一表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜，

以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。

2.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

在所述微型透镜阵列的至少所述多个投影透镜的外侧区域形成有遮光膜。

3.如权利要求1或2所述的光掩模，其特征在于，

在所述微型透镜阵列的形成有所述多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设有用于与所述被曝光体对位的对准标记。

4.如权利要求3所述的光掩模，其特征在于，

所述被曝光体在曝光中沿着一个方向以恒定速度被搬运，

所述对准标记以离开形成有所述多个投影透镜的区域的朝向所述被曝光体的搬运方向的前侧规定距离的方式设置。

5.如权利要求4所述的光掩模，其特征在于，

所述对准标记包括；与所述被曝光体的搬运方向平行的一对细线图案；设于该一对细线图案间且相对于所述被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案。

6.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

在所述投影透镜的表面设有光圈，所述光圈具有直径小于所述向场透镜的直径的圆形开口。