[发明专利]磺酸根官能涂层和方法

权利要求书

1.一种处理基底表面的方法，所述方法包括：

将底漆涂料组合物施加至所述基底表面，以形成其上具有-OH基团的涂底漆表面；

使所述其上具有-OH基团的涂底漆表面与磺酸根官能涂料组合物接触，其中所述磺酸根官能涂料组合物包括包含磺酸根官能团和烷氧基硅烷基团和/或硅烷醇官能团的两性离子化合物；以及

干燥所述磺酸根官能涂料组合物以形成磺酸根官能涂层，所述磺酸根官能涂层包括至少单层的通过硅氧烷键与底漆涂层键合的所述磺酸根官能两性离子化合物；

其中可用擦拭从所述干燥的磺酸根官能涂层清除指纹。

2.根据权利要求1所述的方法，其中可用水和/或水蒸汽以及擦拭从所述干燥的磺酸根官能涂层清除指纹。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述磺酸根官能涂料组合物包含醇和/或水。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述磺酸根官能涂料组合物还包含四烷氧基硅烷、其寡聚物、硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾、二氧化硅或它们的组合。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述磺酸根官能涂料组合物包含四烷氧基硅烷或硅酸锂。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述基底表面包括金属表面、陶瓷表面、有机聚合物表面或它们的组合。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述两性离子化合物由下式(II)表示：

(R¹O)_p-Si(R²)_q-W-N⁺(R³)(R⁴)-(CH₂)_m-SO₃^-

(II)

其中：

各个R¹独立地为氢、甲基或乙基；

各个R²独立地为甲基或乙基；

各个R³和R⁴独立地为饱和或不饱和的、直链、支链或环状的有机基团，其可任选地由基团W的原子连接在一起形成环；

W为有机连接基团；

p和m为1至3的整数；

q为0或1；并且

p+q=3。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述包含磺酸根官能团的两性离子化合物为烷氧基硅烷化合物。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中将底漆涂料组合物施加至所述基底表面包括：

使所述基底表面与含纳米粒子的涂料组合物接触，其中所述含纳米粒子的涂料组合物包含：

pH小于5的水性分散体，其包含：

平均粒径为40纳米或更小的二氧化硅纳米粒子，和

pKa≤3.5的酸；以及

干燥所述含纳米粒子的涂料组合物，从而在所述基底表面上提供二氧化硅纳米粒子底漆涂层。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述二氧化硅纳米粒子在所述含纳米粒子的涂料组合物中的浓度为0.1重量%至20重量%。

11.根据权利要求9或权利要求10所述的方法，其中所述酸选自草酸、柠檬酸、H₃PO₄、HCl、HBr、HI、HBrO₃、HNO₃、HClO₄、H₂SO₄、CH₃SO₃H、CF₃SO₃H、CF₃CO₂H、CH₃SO₂OH以及它们的组合。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，其中所述二氧化硅纳米粒子的平均粒径为20纳米或更小。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其中所述含纳米粒子的涂料组合物还包含四烷氧基硅烷。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的方法，其中所述含纳米粒子的涂料组合物的pH小于3。