[发明专利]能最小化反馈光引起的输出变化的光学器件、光学扫描设备和图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201080057439.8 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN102668280A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 安达一彦;佐藤俊一;菅原悟;石井稔浩 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;G02B26/10;H01S5/022
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 最小化 反馈 引起 输出 变化 光学 器件 扫描 设备 图像 形成
【权利要求书】:

1.一种光学器件,包括:

面发射激光器阵列,具有多个发光部分;

封装构件,所述面发射激光器阵列设置在所述封装构件上;以及

透明构件,保持在所述封装构件上,并且设置在所述面发射激光器阵列发射的光束的光路上,

所述透明构件包括入射面,由所述面发射激光器阵列发射的光束入射在所述入射面上,

其中所述透明构件的所述入射面相对于所述面发射激光器阵列的发射表面以第一倾斜角倾斜,所述发光部分中的一个发光部分发射的光经由所述透明构件的反射以第二倾斜角入射在所述发光部分中的另一个发光部分上,所述第一倾斜角小于所述第二倾斜角,

其中在所述面发射激光器阵列的所述发光部分中,所述一个发光部分和所述另一个发光部分以最大的距离彼此分隔。

2.根据权利要求1所述的光学器件,其中所述面发射激光器阵列的所述发光部分的每一个都包括具有有源层的腔体结构,

其中所述入射面相对于所述发射表面的所述第一倾斜角等于或大于(θLD0)/2,

其中θLD是对应于发射光的远场图案的2σ或更大的光束发散角,以及

Ψ0是当由所述透明构件反射的光入射在所述腔体结构上时使所述腔体结构相对于由所述腔体结构的折射系数及其长度确定的谐振波长的光的反射率为99%或更大的临界入射角。

3.根据权利要求2所述的光学器件,其中所述光束发散角θLD对应于所述远场图案的3σ或更大。

4.根据权利要求2所述的光学器件,其中相对于以所述临界入射角Ψ0入射在所述腔体结构上的光的谐振波长比由所述腔体结构的折射系数及其长度确定的谐振波长短2nm或更大。

5.根据权利要求1所述的光学器件,其中所述面发射激光器阵列的发光部分的每一个都包括发射区域,其中所述发射区域包括用透明电介质膜覆盖的反射率较低的区域。

6.根据权利要求5所述的光学器件,其中所述发射区域包括反射率较高的区域,所述反射率较高的区域的反射率高于所述反射率较低的区域的反射率,

其中从所述光学器件发射光的方向上看时,所述反射率较高的区域具有形状各向异性。

7.根据权利要求1所述的光学器件,其中所述透明构件包括透明树脂模塑构件,

其中所述面发射激光器阵列包含在所述透明树脂模塑构件内。

8.根据权利要求1所述的光学器件,其中所述透明构件包括光纤。

9.根据权利要求8所述的光学器件,其中所述光纤包括端面,所述端面的平面垂直于所述光纤的纵向方向,

其中所述面发射激光器元件的发射表面的法线相对于所述光纤的纵向方向倾斜。

10.根据权利要求8所述的光学器件,其中所述光纤包括相对于所述光纤的纵向方向倾斜的端面,

其中所述面发射激光器元件的所述发射表面的法线平行于所述光纤的纵向方向。

11.一种光学扫描设备,包括:

光源,包括根据权利要求1所述的光学器件;

偏转器,构造为偏转由所述光源发射的光;以及

扫描光学系统,构造为将由所述偏转器偏转的光聚集在被扫描表面上。

12.一种图像形成设备,包括:

图像载体;以及

根据权利要求11所述的光学扫描设备,构造为用具有图像信息的光扫描所述图像载体。

13.根据权利要求12所述的图像形成设备,其中所述图像信息包括多色图像信息。

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