[发明专利]用于沉积含铜-铟-镓的薄膜的电镀方法和化学物无效
| 申请号： | 201080057374.7 | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102741459A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | S·阿克苏;M·皮纳巴斯 | 申请（专利权）人： | 索罗能源公司 |
| 主分类号： | C25D7/12 | 分类号： | C25D7/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 薄膜 电镀 方法 化学 | ||
1.一种在基底上形成太阳能电池吸收器的方法，该方法包括：形成前体叠层，包括：
电沉积第一层，所述第一层包括膜叠层，该膜叠层至少包括含铜的第一膜、含铟的第二膜和含镓的第三膜，其中该第一层包括第一铜量；
电沉积第二层到所述第一层上，该第二层包括第二铜-铟-镓三元合金膜、铜-铟二元合金膜、铜-镓二元合金膜和铜-硒二元合金膜中至少其一，其中该第二层包括第二铜量，该第二铜量高于所述第一铜量；和
电沉积第三层到所述第二层上，该第三层包括硒；和使该前体叠层反应从而在基底上形成吸收器层。
2.根据权利要求1的方法，其中第一铜量包括前体叠层中总摩尔铜量的约35-49%，并且第二铜量包括前体叠层中总摩尔铜量的约51-65%。
3.根据权利要求2的方法，其中电沉积第一层的步骤电沉积至少该膜叠层，且该膜叠层包括含下列之一的叠层序列：铜/铟/铜/镓,铜/镓/铜/铟，和铟/铜/镓。
4.根据权利要求2的方法，其中电沉积第一层的步骤电沉积至少该膜叠层，并且其中该膜叠层进一步包括第四铜膜。
5.根据权利要求4的方法，其中该膜叠层包括含如下之一的叠层序列：铜/镓/铜/铟，和铜/铟/铜/镓。
6.根据权利要求1的方法，其中电沉积第一层的步骤电沉积至少该膜叠层，并且第一膜和第二膜中至少一个包含铜-铟二元合金。
7.根据权利要求1的方法，其中电沉积第一层的步骤电沉积至少该膜叠层，并且第一膜和第三膜中至少一个包含铜-镓二元合金。
8.根据权利要求1的方法，其中第二层中的铜是渐变的，使得邻近第一层的铜量小于第二层顶部的铜量。
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