[发明专利]光学成像写入系统

权利要求书

1.一种在光刻制程中处理影像数据的方法，包含下列步骤：

提供平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；

接收待写入基板的光掩膜数据图案；

处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；

沿该对象的边缘选择评估点；

配置该平行成像写入系统使其利用该评估点成像该对象；以及

藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入，而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。

2.如权利要求1所述的方法，其中选择评估点的步骤包含：

选择彼此等距的评估点，其中该相邻评估点间的相等距离小于相邻像素间的距离的一半。

3.如权利要求2所述的方法，其进一步包含：

储存每一个评估点相对于像素格点的位置；

储存边缘相对于该像素格点的角度；以及

储存评估点已经接受曝光的次数。

4.如权利要求1所述的方法，其中配置该平行成像写入系统的步骤包含：

形成一组查找表，用以处理该对象中的像素，其中该像素被等分划分以形成复数个子像素区域，且每一个查找表储存用以成像该像素及其对应子像素区域的信息。

5.如权利要求4所述的方法，其中该组查找表包含：

像素内不同位置从其邻近像素的曝光所得的贡献，包括得自与该目标像素相距一个像素的一阶邻近像素的贡献。

6.如权利要求5所述的方法，其中该组查找表进一步包含得自与该目标像素相距两个像素的二阶邻近像素的贡献，以及得自与该目标像素相距两个像素以上的二阶以上邻近像素的贡献。

7.如权利要求4所述的方法，其中配置步骤进一步包含：

形成该组查找表用以处理该对象具有不同角度的边缘。

8.如权利要求4所述的方法，其中配置步骤进一步包含：

形成该组查找表用以存取多个相关像素构成的一个群组的信息。

9.如权利要求4所述的方法，其中配置步骤进一步包含：

建立地址用以从该组查找表中存取多个相关像素构成的一个群组的信息。

10.如权利要求1所述的方法，其中配置步骤进一步包含：

辨识该平行成像写入系统的固有不准确；

进行调整以抵消固有不准确；以及

利用该调整执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。

11.如权利要求10所述的方法，其中辨识固有不准确的步骤包含：

测量相邻SLM间的距离；

测量DMD镜阵的旋转量；以及

测量SLM单元对该基板的光学放大系数。

12.如权利要求10所述的方法，其中进行调整以抵消固有不准确的的步骤包含：

辨识描述扭曲对象的边界的函数；

建立反函数以补偿扭曲对象的边界；以及

于成像该扭曲对象的边界时施用该反函数。

13.一种在光刻制程中处理影像数据的系统，包含：

平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；

用以控制该等SLM成像单元的控制器，其中该控制器包含

逻辑设计用以接收待写入基板的光掩膜数据图案；

逻辑设计用以处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

逻辑设计用以辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；

逻辑设计用以沿该对象的边缘选择评估点；

逻辑设计用以配置该平行成像写入系统使其利用该评估点成像该对象；以及

逻辑设计用以藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入，执行多重曝光以将该对象写入基板的该区域。

14.如权利要求13所述的系统，其中用以选择评估点的逻辑设计包含：

逻辑设计用以选择彼此等距的评估点，其中该相邻评估点间的相等距离小于相邻像素间的距离的一半。