[发明专利]毫米波成像设备、毫米波成像系统和程序无效

专利信息
申请号: 201080056631.5 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN102713670A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 植村顺;武田政宗;山田康太;高桥顺一;长谷川毅;平井晴之;新仓广高;松崎智彦;佐藤弘康;泽谷邦男;水野皓司 申请(专利权)人: 马斯普罗电工株式会社;国立大学法人东北大学
主分类号: G01S13/89 分类号: G01S13/89;G01V3/12
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 毫米波 成像 设备 系统 程序
【权利要求书】:

1.一种毫米波成像设备,包括:

透镜天线,对于观察区域,所述透镜天线捕获毫米波并且形成物体图像,所述毫米波从所述观察区域放射,所述观察区域是被指定为观察目标的区域,在所述观察区域的一部分中布置有放射被指定为基准的所述毫米波的放射体;

毫米波传感器组,其由一个以上的毫米波传感器组成,所述一个以上的毫米波传感器被布置于所述透镜天线所捕获的所述毫米波形成所述物体图像的图像形成区域中,并且所述毫米波传感器中的每一个都输出对应于所接收的所述毫米波的信号电平的探测值;

图像形成装置,其生成所述物体图像,所述物体图像基于从所述一个以上的毫米波传感器输出的每一个所述探测值,并且通过配置对应于所述探测值的成分的像素而形成;

校正值设置装置,其设置对于所述各个毫米波传感器的校正值,所述校正值为所述一个以上的毫米波传感器中被指定为接收从所述放射体放射的所述毫米波的基准毫米波传感器所探测的探测值与预定的基准探测值之间的误差;以及

探测值校正装置,在由所述图像形成装置实施的所述物体图像的形成之前,其通过所述校正值设置装置所设置的所述校正值校正由所述一个以上的毫米波传感器中的每一个探测的所述探测值。

2.根据权利要求1所述的毫米波成像设备,进一步包括基准设置装置,其将由所述基准毫米波传感器在预定时机探测的所述探测值作为所述基准探测值进行设置,

其中,所述校正值设置装置将所述基准毫米波传感器所探测的所述探测值与所述基准设置装置所设置的所述基准探测值之间的所述误差作为对于所述各个毫米波传感器的校正值进行设置。

3.根据权利要求1或者权利要求2所述的毫米波成像设备,

其中,所述毫米波传感器组被构成为线传感器,其中,在所述图像形成区域中多个毫米波传感器被布置成一行,并且所述线传感器根据所述毫米波传感器所接收的所述毫米波,输出与所述物体图像的一行对应的探测值,

所述毫米波成像设备进一步包括:

反射器,其具有反射由所述透镜天线捕获的所述毫米波以将所述毫米波引导至所述毫米波传感器组的反射面;以及

反射角改变装置,其依次改变所述反射面的反射角,使得沿着与所述毫米波传感器被放置的方向相交的方向,将由所述反射器的所述反射面所反射的所述毫米波形成的所述物体图像的所述图像形成区域移位,以便所述毫米波传感器组顺序输出与对应于所述反射面的所述反射角的所述物体图像的一行对应的一组探测值,作为与所述物体图像的一行对应的探测值,

其中,每当所述一组探测值从所述毫米波传感器组输出时,所述图像形成装置便生成其中与所述一组探测值中的各个探测值对应的参数的像素被排列成一行的物体图像的一行。

4.一种毫米波成像系统,包括:

放射体,其布置于被指定为观察目标(观察区域)的区域中,并且放射在所述观察区域的一部分中被指定为基准的毫米波;以及

根据权利要求1至3之一所述的毫米波成像设备。

5.根据权利要求4所述的毫米波成像系统,其中,所述放射体由热噪声源或者消波器制成,所述热噪声源生成待被指定为基准的热噪声。

6.一种程序,其使得计算机作为根据权利要求1至3之一所述的所有装置工作。

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