[发明专利]高压屏蔽装置

权利要求书

1.一种用于在带电粒子系统中使用的高压屏蔽装置，包括：

第一金属部件，包括在所述装置中以被设定为第一电位；

实质上薄的第二金属部件，例如涂层；

所述第二金属部件被包括在所述装置中以被设定在第二电位上，导致了关于第一金属部件相对带负电；

所述第二金属部件被定位在距所述第一金属部件一定距离处；

所述第一和第二金属部件之间的所述距离限定了其中存在电场的放电区域；

所述第二金属部件包括一个或多个边缘部件；以及

所述装置进一步包括绝缘体，其特征在于：

面对放电区域的所述一个或多个边缘部件被该绝缘体至少部分地封装，并且该第二金属部件被包括作为导电涂层。

2.如权利要求1所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在用于在目标上投影图像的投影装置设备中。

3.如权利要求1或2所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在带电粒子光刻系统的投影透镜中。

4.如权利要求1，2或3所述的屏蔽装置，所述屏蔽装置被包括在投影透镜中以屏蔽高压投影光学器件和该投影透镜的外壁。

5.如权利要求1，2，3或4所述的屏蔽装置，其中，第一金属部件作为导电涂层而被包括在环状的绝缘载体的外部边缘上，并与投影透镜的外壁相接触，第二金属部件作为环状的导电涂层而被包括在环状的绝缘载体的中央部件上，并且绝缘体作为放置在第二金属涂层的边缘上并全部覆盖第二金属涂层的边缘的环而被包括。

6.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，第一和第二金属部件之间的相对电位差在1kV至10kV的范围内。

7.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，放电区中的电场强度在10kV/mm至30kV/mm的范围内。

8.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，该屏蔽装置防止电击穿和/或电子蠕变。

9.如前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置，其中，第一金属部件被设定在地电位。

10.一种包括根据前述权利要求的任一个所述的屏蔽装置的带电粒子光刻机。