[发明专利]除臭的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的生产方法有效
申请号: | 201080054698.5 | 申请日: | 2010-12-02 |
公开(公告)号: | CN102639605A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 早田达央;田村诚基 | 申请(专利权)人: | 道康宁东丽株式会社 |
主分类号: | C08G77/34 | 分类号: | C08G77/34;C08G77/46;A61K8/894 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 武晶晶;郑霞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 除臭 氧化 改性 聚硅氧烷 组合 生产 方法 | ||
技术领域
本发明涉及生产除臭的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的方法并涉及包含该除臭的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的化妆品成分和化妆品材料。更特别地,本发明涉及生产随时间推移产生极少气味的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的方法,涉及包含由该生产方法提供的除臭的组合物的化妆品成分,且涉及并入由该生产方法提供的除臭的组合物的极低气味的化妆品材料。
背景技术
至今已通过具有硅键合的氢基团的有机氢聚硅氧烷和在末端位置具有烯丙醚基团的聚氧化烯之间的氢化硅烷化反应来合成聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物。然而,以这种方式获得的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物易于随时间推移产生气味,且当其被用于化妆品应用,例如毛发化妆品和皮肤化妆品时实现无气味的条件是相当困难的,这对它们的结合量和它们的应用造成限制。
认为这种气味是由包含烯丙醚基团的聚氧化烯的末端双键的内部迁移造成的,这种内部迁移发生在氢化硅烷化反应期间并导致同分异构的包含丙烯醚基团的聚氧化烯的次级生产,包含丙烯醚基团的聚氧化烯随后经历由于体系中湿气和痕量酸的存在引起的逐渐水解而产生造成气味的丙醛。
为了解决这个问题,已提出一种方法,其中在氢化硅烷化反应之后通过使丙烯醚与酸性水溶液或酸性物质反应来强制进行水解以产生造成气味的丙醛,随后去除丙醛(参考专利文件1)。还已提出一种方法,其中使用酸性物质和低级醇代替水来降解包含丙烯醚基团的聚氧化烯;在丙醛和低级醇之间形成加合物;并随后去除这些物质(参考专利文件2)。然而,在这两种方法中,仅提供了无机酸例如盐酸、硫酸或硝酸,有机酸例如甲酸或乙酸,或路易斯酸作为酸性物质的实例。关于这些酸的问题是在水解反应期间,它们裂解聚氧化烯部分中的碳-氧键以及有机聚硅氧烷部分中的硅-氧键。另外,需要过量的酸和水或醇以驱动水解反应完成,且然后必须通过挥发去除这些物质。此处的问题是这促进之前提到的酸介导的碳-氧键和硅-氧键断裂。
为了解决由这些酸引起的问题,已提出一种方法,其中氢化硅烷化反应之后是在固体酸存在下的处理(参考专利文件3)。然而,当使用固体酸时,与包含丙烯醚基团的聚氧化烯的接触是不充分的,导致水解不充分和随时间推移出现气味产生。另外,当已增加所使用的量以提高效率时,出现问题,例如由过滤期间的逸出引起的可加工性受损、由过滤过程期间的堵塞引起的可加工性受损和发生变色的趋势。另外,还已知固体酸起缩聚反应催化剂的作用,且因此仍类似地发生之前提到的酸介导的碳-氧键和硅-氧键断裂。另外,固体酸不溶于水和有机溶剂中,这使得随后的洗涤步骤更复杂。
[专利文件1]JP 02-302438 A(JP 07-091389 B)
[专利文件2]JP 2004-189959 A(JP 4,064,223 B)
[专利文件3]WO 2004/046226
发明概述
待解决的技术问题
本发明寻求解决以上提到的问题并把引入生产以下所述的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的方法作为目标,该组合物没有酸介导的碳-氧键和硅-氧键断裂,基本上被除臭且也不随时间推移产生气味,且因此完全适合用于化妆品应用,例如,用于毛发化妆品、皮肤化妆品等。本发明的另外的目标是提供包含聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物且不含怪异的或特殊的气味的化妆品成分和提供并入聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的极低气味的化妆品材料。
问题的解决方法
通过聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的生产方法实现本发明的目标,其中该方法的特征包括:
步骤[A]:通过在以下组分(a)和(b)之间进行氢化硅烷化反应合成聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物:
(a)在分子链末端位置具有碳-碳双键的聚氧化烯化合物,和
(b)有机氢聚硅氧烷;和
步骤[B]:通过在以下组分(c)存在下处理聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物去除造成气味的物质:
(c)至少一种酸性无机盐,其特征是在25℃下是固体,溶于水,且在25℃下对于通过溶解50g于1升的离子交换水中制备的水溶液给出不大于4的pH。还通过包含由该生产方法提供的聚氧化烯改性聚硅氧烷组合物的化妆品成分和化妆品材料实现本发明的目标。
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