[发明专利]光学成像写入系统

权利要求书

1.一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法，包含下列步骤：

提供一个平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；

接收一个待写入基板的光掩膜数据图案；

处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

辨识出相邻SLM成像单元其相邻成像区之间的重叠区域；

根据一组预设的成本函数决定一个接合路径，藉以合并该重叠区域内的相邻成像区；及

控制该SLM成像单元，以利用该接合路径将该分区光掩膜数据图案平行写入该基板。

2.如权利要求1的方法，其中辨识该重叠区域的步骤包含：

辨识出一对界定该重叠区域的外边界；

辨识出一个位于该对外边界内的理论边界，其中该理论边界是该接合路径的一个参考中心；

指定与该对外边界相关的高成本函数；及

利用该高成本函数选择该接合路径，以避免该接合路径穿过该对外边界。

3.如权利要求1的方法，其中决定该接合路径的步骤还包含：

分析待写入该基板的光掩膜数据图案；

选择该接合路径，避免使电路结构的边缘成像；及

选择该接合路径，避免使狭窄的电路结构成像。

4.如权利要求1的方法，其中该组预设的成本函数包含：

第一成本项，其与该接合路径是否靠近电路结构的边缘有关。

5.如权利要求4的方法，其中该组预设的成本函数还包含：

第二成本项，其与该接合路径的总长度有关；及

第三成本项，其与该接合路径的每次转向有关。

6.如权利要求1的方法，其中决定该接合路径的步骤还包含：

利用一个目标路径的成本函数决定该接合路径，其中该目标路径乃随机选取，且包含复数个线段。

7.如权利要求6的方法，其中该目标路径包含：

一个随机起点，其位于该重叠区域的第一端；

一个随机终点，其位于该重叠区域的第二端；及

复数个线段，其连接于该随机起点与该随机终点之间以形成该目标路径，且各该线段由下列各项加以定义：

一个长度，其由一个随机数决定；

一个角度，其由一个或多个预定角度决定；及

一个方向，其以交错方式决定。

8.一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法，包含下列步骤：

提供一个平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；

接收一个待写入基板的光掩膜数据图案；

处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；

辨识出相邻SLM成像单元其相邻成像区之间的重叠区域；

利用一个随机函数决定一个接合路径，藉以合并该重叠区域内的相邻成像区；及

控制该SLM成像单元，以利用该接合路径将该分区光掩膜数据图案平行写入该基板。

9.如权利要求8的方法，其中辨识该重叠区域的步骤包含：

辨识出一对界定该重叠区域的外边界；

辨识出一个位于该对外边界内的理论边界，其中该理论边界是该接合路径的一个参考中心；

指定与该对外边界相关的高成本函数；及

利用该高成本函数选择该接合路径，以避免该接合路径穿过该对外边界。

10.如权利要求8的方法，其中决定该接合路径的步骤还包含：

分析待写入该基板的光掩膜数据图案；

选择该接合路径，避免使电路结构的边缘成像；及

选择该接合路径，避免使狭窄的电路结构成像。

11.如权利要求8的方法，其中决定该接合路径的步骤还包含：

决定一组线段以形成该接合路径，其中各该线段具有对应的长度、角度及方向；及

针对各该线段：

利用一个随机数变化该线段的长度：

利用一个或多个预定角度变化该线段的角度；及

以交错方式变化该线段的方向。