[发明专利]包含偏转镜的折反射投射物镜以及投射曝光方法

权利要求书

1.一种折反射投射物镜，用于将设置在所述投射物镜的物面（OS）的有效物场中的掩模的图案成像到设置在所述投射物镜的像面中的有效像场中，包含：

多个透镜以及至少一个凹面镜（CM）；

第一偏转镜（FM1），用于将来自所述物面（OS）的辐射偏转到所述凹面镜；以及第二偏转镜（FM2），用于将来自所述凹面镜的辐射偏转到所述像面（IS）的方向，

其中：

所述偏转镜相对于所述投射物镜的光轴（OA）绕着垂直于所述光轴且平行于第一方向的倾斜轴倾斜；

所述第一偏转镜设置为光学邻近于第一场平面，所述第二偏转镜设置为光学邻近于第二场平面，所述第二场平面与所述第一场平面光学共轭；并且

设置在所述第一场平面和所述第二场平面之间的光学成像系统在所述第一方向上具有成像比例β_x，β_x的范围为-0.8>β_x>-1.2，

其特征在于：

位移装置（DISX），用于所述第一偏转镜（FM1）和所述第二偏转镜（FM2）在第一位置和第二位置之间平行于所述第一方向的同步位移，所述第二位置相对于所述第一位置偏移了一位移距离（DIS），

其中在所述有效物场和所述有效像场之间行进的投射辐射束，在所述偏转镜的所述第一位置中在第一反射区中反射，并且在所述偏转镜的所述第二位置中在第二反射区中反射，所述第二反射区相对于所述第一反射区平行于所述第一方向横向偏移了所述位移距离（DIS），并且其中所述偏转镜在所述第一反射区和所述第二反射区中具有反射特性的不同局部分布。

2.如权利要求1所述的投射物镜，其中所述第一偏转镜（FM1）具有第一反射涂层（R1），所述第二偏转镜（FM2）具有第二反射涂层（R2），并且所述反射涂层各具有第一层区域（R1-1、R2-1）以及在所述第一方向上位于所述第一层区域旁的第二层区域（R1-2A、R1-2B、R2-2A、R2-2B），所述第一层区域（R1-1、R2-1）具有反射率的第一局部分布，所述第二层区域（R1-2A、R1-2B、R2-2A、R2-2B）具有反射率的第二局部分布，所述反射率的第二局部分布不同于所述第一层区域中的所述反射率的第一局部分布。

3.如权利要求2所述的投射物镜，其中所述第一偏转镜和所述第二偏转镜的所述反射涂层在所述第一方向上各具有层厚度的线性变化，其中所述层厚度的变化延伸于所述第一层区域（R1-1、R2-1）和所述第二层区域（R1-2A、R1-2B、R2-2A、R2-2B）上。

4.如权利要求2所述的投射物镜，其中所述第一层区域各具有带有局部恒定反射率的反射涂层，并且所述第二层区域中提供局部层厚度分布，尤其是层厚度的线性变化。

5.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中所述第一偏转镜具有第一非平面反射镜表面（MS1），所述第二偏转镜具有第二非平面反射镜表面（MS2），所述第二非平面反射镜表面相对于所述第一反射镜表面关于所述第一方向具有相反方向的表面形状，其中所述非平面反射镜表面与平参考面的偏差优选小于10μm。

6.如权利要求5所述的投射物镜，其中所述反射镜表面（MS1、MS2）在所述第一方向上弯曲，其中所述第一方向上的表面分布特别地为以下群组中的至少一种：(i)抛物表面分布；(ii)三次方表面分布；(iii)符合多项式的表面分布；以及(iv)所述反射镜表面在第一表面部分具有正曲率而在偏离所述第一表面部分的第二表面具有负曲率的复杂曲面分布。

7.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中所述第一偏转镜（FM1）和所述第二偏转镜（FM2）设置在子孔径比S的绝对值小于0.3，尤其是小于0.2的区域中。

8.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中所述位移装置（DISX）具有位移驱动器（DRX），用于所述第一偏转镜和所述第二偏转镜平行于所述第一方向的同步位移，所述位移驱动器在所述投射物镜操作期间可致动。

9.如前述权利要求中的任一项所述的投射物镜，其中所述第一偏转镜（FM1）和所述第二偏转镜（FM2）具有共同载体结构，其中所述第一偏转镜（FM1）和所述第二偏转镜（FM2）优选由载体棱镜（SUB）的彼此垂直取向的反射镜表面所形成。