[发明专利]用于喷淋头清洁的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在清洁化学物质中对组件部分进行清洁的系统，其包括：

湿法工作台装置，其包括：

清洁容器组件，其用于在清洁处理期间保持要被清洁的一个或多个组件部分；以及

可拆卸清洁车，其可拆卸地连接到所述清洁容器组件，以用于在所述清洁处理期间向所述清洁容器组件提供一个或多个清洁化学物质。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述组件部分是喷淋头。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述湿法工作台装置还包括：

框架，其形成溢出槽，所述溢出槽用于保持所述清洁容器组件并且获得在处理期间可能从所述清洁容器组件溢出的任何流体；以及

槽排水管线，其用于在清洁期间移除由所述溢出槽获得的任何流体。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述清洁容器组件包括：

第一清洁槽，其用于支撑要被清洁的第一组件部分；

换能器，其定位在所述第一清洁槽下方；

支撑件，其定位在所述清洁槽内，以用于支撑要被清洁的所述组件部分。

5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述清洁容器组件还包括；

第二清洁槽，其用于支撑要被清洁的第二组件部分。

6.根据权利要求4所述的系统，其中，所述可拆卸的清洁车还包括：

系统控制器，其用于控制所述清洁处理；以及

清洁流体供应模块，其用于向所述清洁容器组件提供和循环清洁流体。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述清洁流体供应模块包括：

惰性气体模块，其用于在所述清洁处理期间提供可以被用作为净化气体的惰性气体；

去离子(DI)水供应模块，其用于在所述清洁处理期间提供去离子水；以及

第一清洁流体供应槽，其用于向所述第一清洁槽提供清洁流体。

8.根据权利要求7所述的系统，其中，所述清洁流体供应模块包括：

第二清洁流体供应槽，其用于将清洁流体提供到所述第二清洁槽。

9.根据权利要求6所述的系统，其中，所述系统控制器包括以下至少一者：PhotoMeghelic计、用于检测所述可拆卸清洁车内的泄露的泄露警报器、用于整体控制所述清洁系统的可编程逻辑控制器、以及内嵌热控制器。

10.一种用于在清洁化学物质中对组件部分进行清洁的方法，其包括如下步骤：

提供清洁容器组件，所述清洁容器组件用于在清洁处理期间保持要被清洁的一个或多个组件部分，所述清洁容器组件包括：

外清洁槽；

由所述外清洁槽围绕的第一清洁槽；

由所述外清洁槽围绕的第二清洁槽；以及

换能器，其在所述外清洁槽内定位在所述第一清洁槽和所述第二清洁槽下方；

提供可拆卸清洁车，所述可拆卸清洁车可拆卸地连接到所述清洁容器组件，以用于在所述清洁处理期间向所述清洁容器组件提供一个或多个清洁化学物质，所述可拆卸清洁车包括：

惰性气体模块，其用于在所述清洁处理期间提供可以被用作为净化气体的惰性气体；

去离子(DI)水供应模块；

用于所述第一清洁槽的第一清洁流体供应槽；以及

用于所述第二清洁槽的第二清洁流体供应槽；

将第一组件部分定位在所述第一清洁槽中；

将第二组件部分定位在所述第二清洁槽中；

使得第一清洁流体从所述第一清洁流体供应槽流动进入所述第一清洁槽；

使得第二清洁流体从所述第二清洁流体供应槽流动进入所述第二清洁槽；

使得所述换能器循环打开和关闭以搅动所述第一清洁流体和所述第二清洁流体；以及

使得DI水从所述DI水供应模块流动进入所述第一清洁槽和所述第二清洁槽，以从所述第一清洁槽驱除所述第一清洁流体和从所述第二清洁槽驱除所述第二清洁流体。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，使得第一清洁流体从所述第一清洁流体供应槽流动进入所述第一清洁槽与使得第二清洁流体从所述第二清洁流体供应槽流动进入所述第二清洁槽同时发生。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，使得第一清洁流体从所述第一清洁流体供应槽流动进入所述第一清洁槽与使得第二清洁流体从所述第二清洁流体供应槽流动进入所述第二清洁槽顺序发生。