[发明专利]清洗设备，辐射源模块和流体处理系统

权利要求书

1.一种用于流体处理系统中的表面的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括：

至少一个切削构件；以及

运动构件，被配置为引起与所述表面接触的细长的碎屑和所述至少一个切削构件之间的相对移动，以使得所述至少一个切削构件切削所述细长的碎屑。

2.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，进一步包括结合到所述运动构件的碎屑转移构件，并且其中，所述运动构件被配置为在第一位置和第二位置之间移动所述碎屑转移构件。

3.如权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件被配置为与所述表面的至少一部分接触。

4.如权利要求2-3所述的清洗设备，其特征在于，所述至少一个切削构件被结合到所述碎屑转移构件。

5.如权利要求2-4所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件包括擦拭构件。

6.如权利要求2-5所述的清洗设备，其特征在于，进一步包括相对于至少一个切削构件成隔开的关系的切削表面构件，其中，所述碎屑转移构件移动到所述第二位置使得所述至少一个切削构件靠近所述切削表面构件，以便切削与所述表面接触的细长的碎屑。

7.如权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述切削表面构件相对于所述至少一个切削构件被固定。

8.如权利要求2-7所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件被结合到所述擦拭构件。

9.如权利要求6-8所述的清洗设备，其特征在于，所述切削表面构件被一体形成在所述碎屑转移构件中。

10.如权利要求1-9所述的清洗设备，其特征在于，多个切削构件被连接到所述碎屑转移构件。

11.如权利要求5-9所述的清洗设备，其特征在于，一对切削构件被连接到所述碎屑转移构件，所述一对切削构件被配置为相对于彼此成隔开的关系。

12.如权利要求10-11所述的清洗设备，其特征在于，所述切削构件被定向为彼此基本上平行。

13.如权利要求1-12中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述至少一个切削构件包括细长的切削刃。

14.如权利要求1-13中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为相对于通过所述流体处理系统的流体流动的方向成一定角度。

15.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约15°到大约75°。

16.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约30°到大约60°。

17.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约40°到大约50°。

18.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是大约45°。

19.如权利要求1-14中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为被定向成基本上平行于通过所述流体处理系统的所述流体流动的方向。

20.如权利要求19所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为被定向成与所述表面的上游部分邻接。

21.如权利要求1-20中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件是环形的。

22.如权利要求1-21中任一项所述的清洗设备，其特征在于，包含多个擦拭构件。

23.如权利要求22所述的清洗设备，其特征在于，所述多个擦拭构件相对于彼此平行布置。

24.如权利要求22-23中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述多个擦拭构件被配置在结合到所述运动构件的托架构件中。

25.如权利要求24所述的清洗设备，其特征在于，每一个擦拭构件进一步包括悬挂构件，所述悬挂构件能够操作为当所述擦拭构件被移动到所述第一位置或所述第二位置时，缓冲所述擦拭构件。