[发明专利]用于使液体经受净化过程的设备

权利要求书

1.一种用于使液体经受净化过程的设备(1)，包括：

-用于接收和容纳液体的第一容器(10)和第二容器(20)的组件，其中用于对液体执行净化作用的装置(11)设置于所述第一容器(10)中，其中所述第二容器(20)被设置用于从所述第一容器(10)接收溢出，并且其中液体通道(15)存在于所述第一容器(10)与所述第二容器(20)之间；以及

-与在所述第一容器(10)与所述第二容器(20)之间的所述液体通道(15)关联并且适于呈现各种状态的装置(16)，所述各种状态包括用于阻塞所述液体通道(15)的状态和用于去阻塞所述液体通道(15)的状态。

2.根据权利要求1所述的设备(1)，其中所述第一容器(10)设置于所述第二容器(20)以内。

3.根据权利要求1所述的设备(1)，其中所述阻塞/去阻塞装置(16)设置于所述第一容器(10)的底部中。

4.根据权利要求1所述的设备(1)，还包括用于在液体存在于所述第一容器(10)和所述第二容器(20)二者以内的情形中将所述阻塞/去阻塞装置(16)置于去阻塞位置以便允许在所述第一容器(10)与所述第二容器(20)之间的液体连通的装置(17)。

5.根据权利要求1所述的设备，还包括用于控制所述阻塞/去阻塞装置(16)的装置(17)，其根据所述第二容器(20)以内的液体的水平面可操作，并且适于在液体存在于所述第二容器(20)以内且所述第二容器(20)以内的液体的水平面在预定最小值以上时将所述阻塞/去阻塞装置(16)置于去阻塞位置而在所述第二容器(20)以内的液体的水平面在所述预定最小值以下时将所述阻塞/去阻塞装置(16)置于阻塞位置。

6.根据权利要求5所述的设备(1)，其中所述控制装置(17)包括能够捕获和保持空气的构件。

7.根据权利要求6所述的设备(1)，其中所述控制装置(17)的构件物理地耦接到所述阻塞/去阻塞装置(16)的构件(18)。

8.根据权利要求6所述的设备(1)，其中所述控制装置(17)的构件设置于所述第一容器(10)的底部附近。

9.根据权利要求6所述的设备(1)，其中所述第二容器(20)以内的液体的水平面的所述预定最小值与所述控制装置(17)的构件的默认位置有关。

10.根据权利要求9所述的设备(1)，其中所述控制装置(17)的构件的所述默认位置为所述构件在所述设备(1)的正常操作定向中的最低位置。

11.根据权利要求1所述的设备(1)，包括适于在交替循环中操作用于对液体执行净化作用的装置(11)的装置(30)。

12.根据权利要求1所述的设备(1)，其中所述第一容器(10)的壳(14)具有热绝缘。

13.根据权利要求1所述的设备(1)，其中用于对液体执行净化作用的装置(11)适于发射紫外线光。

14.一种用于净化液体的组件，包括根据权利要求1所述的设备(1)作为用于对液体执行净化作用的多个模块之一。

15.一种用于基于反向渗透原理净化液体的组件，包括反向渗透过滤器设置于其中的模块和根据权利要求1所述的设备(1)作为另一模块。