[发明专利]基板干燥装置以及基板干燥方法

说明书

技术领域

本发明涉及使用磁铁对用具有反磁性的液体清洗过的基板进行干燥的基板干燥装置以及基板干燥方法。

背景技术

在半导体元件的制造工序中使用基板处理装置，该基板处理装置利用旋转夹具保持半导体晶片(以下，称为“晶片”。)，并供给药液而进行清洗。在使用该装置的清洗工序中，在对晶片供给药液或者纯水之后，使晶片旋转并利用离心力甩掉液滴来进行干燥晶片的处理。

作为干燥晶片的方法，存在一边使晶片旋转一边向晶片喷出IPA(异丙醇)等蒸气的方法、喷出雾状的IPA等的方法、以及供给IPA液等的方法等。另外，提出有一边从喷嘴对晶片供给纯水、一边从纯水的供给位置在中心侧喷出IPA等蒸气来干燥晶片的方法(马兰哥尼干燥)，其中喷嘴从晶片的中心朝向周缘移动(例如，专利文献1)。

当向晶片喷出IPA气体时，IPA气体在晶片上的水表面局部溶解，并产生浓度差马兰哥尼对流。因此能够产生气液界面中的水的流动，从而防止微小液滴从水滴分离而产生微小液滴。

专利文献1：日本特开2007-36180号公报

然而，一旦从附着于晶片的水滴产生微小液滴时，由于基于浓度差马兰哥尼对流的力不对该微小液滴起作用，因此存在不能使微小液滴移动而残留于晶片表面的情况。当残留于晶片的微小液滴干燥时，则在晶片表面产生水印(药液等析出的颗粒)。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的，本发明提供一种基板干燥装置以及基板干燥方法，通过使磁铁沿着晶片等基板朝该基板的边缘侧移动，由此与马兰哥尼干燥相比，能够更有效地防止液滴残留在基板上，从而抑制水印的产生。

本发明的基板干燥装置，对用具有反磁性的液体清洗过的基板进行干燥，该基板干燥装置的特征在于，具备：磁铁，该磁铁用于借助磁力而使附着于基板的液体移动；磁铁输送单元，该磁铁输送单元使上述磁铁沿着基板向该基板的边缘侧移动。

本发明的基板干燥装置的特征在于，具备旋转夹具，该旋转夹具保持圆板状的基板并使之旋转，上述磁铁输送单元具备输送机构，该输送机构使上述磁铁沿着基板从该基板的大致中央部向径向外侧移动。

本发明的基板干燥装置的特征在于，上述磁铁具有第一磁铁和第二磁铁，该第一磁铁和第二磁铁以彼此的磁极成为对极的方式而对置配置，该第一磁铁和第二磁铁的对置方向相对于被上述旋转夹具保持的基板为非平行。

本发明的基板干燥装置的特征在于，具备接近分离单元，该接近分离单元使上述第一磁铁和第二磁铁接近以及分离。

本发明的基板干燥装置的特征在于，上述接近分离单元具备使上述第一磁铁和第二磁铁在上述基板的大致中央部接近的单元。

本发明的基板干燥装置的特征在于，具备：臂部，该臂部保持各磁铁，以使上述第一磁铁与被上述旋转夹具保持的基板的一面侧对置，并使上述第二磁铁与该基板的另一面侧对置；支柱，该支柱支承上述臂部，上述接近分离单元具备升降机构，该升降机构使上述臂部沿着上述支柱升降。

本发明的基板干燥装置的特征在于，具备干燥气体供给喷嘴，该干燥气体供给喷嘴向基板供给干燥气体，上述第一磁铁具有向上述对置方向开口的孔部，上述干燥气体供给喷嘴嵌插于该孔部。

本发明的基板干燥方法，是对用具有反磁性的液体清洗过的基板进行干燥的基板干燥方法，其特征在于，使磁铁接近基板，其中上述磁铁用于借助磁力而使附着于基板的液体移动；使该磁铁沿着上述基板而向该基板的边缘侧移动。

本发明的基板干燥方法，是对用具有反磁性的液体清洗过的基板进行干燥的基板干燥方法，其特征在于，使圆板状的基板旋转；使磁铁接近上述基板的大致中央部，其中上述磁铁用于借助磁力而使附着于基板的液体移动；使该磁铁沿着上述基板从该基板的大致中央部向径向外侧移动。

在本发明中，在使磁铁沿着附着了具有反磁性的液体的基板而向该基板的边缘侧移动的情况下，附着于基板的液体向基板的边缘侧移动。因此能够从基板去除液体，即能够使基板干燥。

由于对附着于基板的液体进行作用的反磁性的磁力对液体整体进行作用，因此即便是微小液滴也因该磁力而向基板的边缘侧移动。另外，当附着于基板的大液滴向基板的边缘侧移动时，虽然有时微小液滴被剩下，但在向基板的边缘侧移动的磁铁接近被剩下的微小液滴的情况下，与向基板的边缘侧移动的大液滴相比，能够对被剩下的该微小液滴作用较大的磁力。因此使微小液滴以向大液滴推回的方式移动，从而能够进入该液滴。因此与现有的马兰哥尼干燥相比，能够减少残留于基板的微小液滴。