[发明专利]电磁波隔离器和集成光学器件有效

专利信息
申请号: 201080046081.9 申请日: 2010-09-24
公开(公告)号: CN102549465A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: J·霍弗里希特;N·莫尔 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 酆迅
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 电磁波 隔离器 集成 光学 器件
【权利要求书】:

1.一种电磁波隔离器(10),包括主体(29),所述主体具有给定对称性并且限定电磁波传播的两个方向(D1,D2),其中,所述隔离器进一步包括一个或者多个特征(21,22),所述特征被配置成降低所述主体的对称性,从而使得在一个方向(D1)上相比于在另一方向(D2)上显著更多地支持波传播。

2.根据权利要求1所述的隔离器,其中所述特征进一步被配置成使得所述隔离器在包含所述主体和所述特征的最大共同截面的平面中是手性的。

3.根据权利要求1或者2所述的隔离器,其中所述主体(29)限定回路,所述两个方向(D1,D2)为对应于所述回路的两个相反的方向(D1,D2)。

4.根据权利要求3所述的隔离器,其中所述主体(29)具有椭圆盘形或者环形形状,并且其中所述隔离器被配置成使得在包含所述主体和所述特征的最大共同截面的平面中,不存在关于在该截面中将所述主体的中心与所述特征的中心连结起来的径向轴的镜面对称性。

5.根据权利要求4所述的隔离器,其中所述特征与在所述主体的周界处的最靠近切线方向平行地延伸。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的隔离器,其中所述特征被配置成所述主体中的凹陷,优选地为在其表面上的开口。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的隔离器,其中所述特征从所述主体的周界延伸。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的隔离器,包括至少两个所述特征(21,22),所述特征对称地布置,从而使得所述隔离器具有倒反中心。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的隔离器,其中所述特征具有楔形形状。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的隔离器,其中所述主体和所述特征为单片的。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的隔离器,进一步包括一个或者多个波导(31,32,33),其与所述主体(29)波连通,所述特征相对于所述一个或者多个波导的平均轴偏离旋转。

12.根据权利要求1-11中任一项所述的隔离器,还包括至少一个光子晶体。

13.根据权利要求1-11中任一项所述的隔离器,还包括适于等离子体应用的金属材料。

14.根据权利要求1-11中任一项所述的隔离器,其被配置成微波腔。

15.一种集成光学器件,其包括两个或者更多隔离器,所述隔离器中的第一个根据前述权利要求中的任何一项,以及所述隔离器中的第二个根据前述权利要求中的任何一项。

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