[发明专利]线栅型偏振片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201080045518.7 申请日: 2010-10-07
公开(公告)号: CN102713697A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 秋田阳介;坂本宽;池田康宏;樱井宏巳;海田由里子;志堂寺荣治 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 线栅型 偏振 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种线栅型偏振片,其中,

该线栅型偏振片具有透光性基板和金属层,

在该透光性基板上形成有多个从底部朝向顶部宽度逐渐变窄的凸条,该多个凸条隔着形成在该凸条之间的平坦部相互平行且隔开规定的间距形成在该透光性基板的表面上,

该金属层覆盖上述凸条的沿长度方向的至少一侧的侧面且由金属或者金属化合物构成,该金属层从凸条的二分之一高度的位置至底部的覆盖厚度的最大值小于从凸条的二分之一高度的位置至顶部的覆盖厚度的最大值。

2.根据权利要求1所述的线栅型偏振片,其中,

该线栅型偏振片具有覆盖凸条的沿长度方向的两个侧面且由金属或者金属化合物构成的金属层,在两个侧面中,该金属层的从凸条的二分之一高度的位置至底部的覆盖厚度的最大值小于从凸条的二分之一高度的位置至顶部的覆盖厚度的最大值。

3.根据权利要求1或2所述的线栅型偏振片,其中,

上述凸条的与长度方向正交的截面形状为三角形或者梯形。

4.根据权利要求1或2所述的线栅型偏振片,其中,

在从凸条的二分之一高度的位置至底部的金属层的覆盖厚度的最大值为Da1、从凸条的二分之一高度的位置至顶部的金属层的覆盖厚度的最大值为Dr1时,Dr1>Da1,Dr1为20nm~80nm,Da1为4nm~25nm。

5.根据权利要求4所述的线栅型偏振片,其中,

Dr1/Da1为2.5~10。

6.根据权利要求2所述的线栅型偏振片,其中,

在使覆盖于凸条的沿长度方向的两个侧面上的金属层的从凸条的二分之一高度的位置至底部的金属层的覆盖厚度的最大值分别为Da1、Da2,从凸条的二分之一高度的位置至顶部的金属层的覆盖厚度的最大值分别为Dr1、Dr2时,Dr1>Da1且Dr2>Da2,Dr1为10nm~45nm,Dr2为10nm~45nm,Da1为4nm~25nm,Da2为4nm~25nm。

7.根据权利要求6所述的线栅型偏振片,其中,

Dr1/Da1为1.5~6,Dr2/Da2为1.5~6。

8.一种线栅型偏振片的制造方法,该制造方法用于制造具有透光性基板和金属层的线栅型偏振片,在该透光性基板上形成有多个从底部朝向顶部宽度逐渐变窄的凸条,该多个凸条隔着形成在该凸条之间的平坦部相互平行且隔开规定的间距地形成在该透光性基板的表面上,该金属层覆盖上述凸条的沿长度方向的至少一侧的侧面且由金属或者金属化合物构成,其中,

该线栅型偏振片的制造方法包括:从与上述凸条的长度方向大致正交且在第1侧面侧与上述凸条的高度方向形成满足下述式(a)的角度的方向蒸镀金属或者金属化合物的工序(1R1);

在上述工序(1R1)之后,从与上述凸条的长度方向大致正交且在第1侧面侧与上述凸条的高度方向形成满足下述式(b)的角度的方向,在蒸镀量多于工序(1R1)的蒸镀量的条件下蒸镀金属或者金属化合物而形成上述金属层的工序(1R2),

tan(θR1±10)=(Pp-Dpb/2)Hp---(a)]]>

θR1+3θR2θR1+30---(b)]]>

在式(a)中,Pp表示凸条的间距,Dpb表示凸条的底部的宽度,Hp表示凸条的高度。

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