[发明专利]模具和模具的制造方法以及防反射膜有效
| 申请号: | 201080045124.1 | 申请日: | 2010-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN102575372A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
| 发明(设计)人: | 石动彰信;箕浦洁;今奥崇夫 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | C25D11/12 | 分类号: | C25D11/12;B29C33/38;G02B1/11 |
| 代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 模具 制造 方法 以及 反射 | ||
1.一种模具的制造方法,上述模具在表面具有反转的蛾眼结构,上述反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部,上述模具的制造方法包含:
工序(a),对铝基材的表面进行阳极氧化,由此形成具有多个微细凹部的多孔氧化铝层;
工序(b),在上述工序(a)之后,使上述多孔氧化铝层与蚀刻液接触,由此使上述多孔氧化铝层的上述多个微细凹部扩大;以及
工序(c),在上述工序(b)之后,进一步对上述表面进行阳极氧化,由此使上述多个微细凹部成长,
在上述工序(c)中施加的电压高于在上述工序(a)中施加的电压。
2.根据权利要求1所述的模具的制造方法,
上述工序(c)之后的上述微细凹部的数量密度小于上述工序(a)之后的上述微细凹部的数量密度的1.26倍。
3.根据权利要求1或2所述的模具的制造方法,
上述工序(a)和上述工序(c)在相同的电解液中进行。
4.根据权利要求3所述的模具的制造方法,
上述工序(a)中的上述多孔氧化铝层的厚度方向的成长速度小于上述工序(c)中的上述多孔氧化铝层的厚度方向的成长速度。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的模具的制造方法,
包含工序(d):在上述工序(a)之前,对上述铝基材的表面进行阳极氧化,由此形成阻挡型氧化铝层。
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的模具的制造方法,
上述多个微细凹部的中心间隔的平均值大于等于180nm。
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的模具的制造方法,
在上述工序(c)之后还进行上述工序(b)和上述工序(c)。
8.根据权利要求1至7中的任一项所述的模具的制造方法,
上述铝基材具有基板和沉积于上述基板上的铝膜。
9.一种模具,是利用权利要求1至8中的任一项所述的制造方法制作的模具,
上述模具具有多孔氧化铝层,上述多孔氧化铝层在表面具有反转的蛾眼结构,上述反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部。
10.一种模具,是利用权利要求1至8中的任一项所述的制造方法制作的模具,
上述模具具有多孔氧化铝层,上述多孔氧化铝层在表面具有反转的蛾眼结构,上述反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部,
上述多个凹部的中心间隔大于等于50nm小于500nm,
上述多个凹部的形状为圆锥状,
上述多个凹部的纵横比大于等于0.5小于等于6.0。
11.一种防反射膜,是使用权利要求9或10所述的模具制作的防反射膜,
上述防反射膜在表面设有多个凸部,上述多个凸部具有直径大于等于50nm小于500nm的底面,
上述多个凸部以不具有周期性的方式配置,
在上述表面存在多个上述多个凸部中的2个以上的凸部彼此接触的部位,
上述2个以上的凸部彼此接触的部位的数量密度小于等于1.3个/μm2。
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