[发明专利]对聚合物膜基材赋予局部全息效应的方法

权利要求书

1.一种对聚合物膜基材赋予局部全息效应的方法，所述聚合物膜基材包括第一表面和第二表面，其中所述方法包括以下步骤：

(a)压花所述聚合物膜基材的第一表面以对所述聚合物膜基材上的压花区域赋予全息效应；以及

(b)在经选择的区域上用油墨和/或清漆印刷所述聚合物膜基材的所述压花的第一表面，所述区域不旨在具有全息效应；以及留下所述未印刷的压花区域以提供全息效应。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述聚合物膜基材是透明的聚合物膜基材。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述第一表面用平行的并且等间距的细纹的图案进行压花，所述细纹彼此以约0.1-10微米均匀地间隔开并且深度至少为0.01微米。

4.如权利要求2所述的方法，其中所述透明的聚合物膜基材选自由下列组成的组：聚乙烯薄膜、双轴向取向的聚丙烯膜和聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

5.如权利要求2所述的方法，其中所述聚合物膜基材的所述压花的第一表面用清漆印刷，并且所述聚合物膜基材的所述第二表面用油墨印刷。

6.如权利要求5所述的方法，其中在所述第一表面上的所述压花区域和所述清漆印刷区域中的折射指数是基本上相同的。

7.如权利要求5所述的方法，其中用于印刷所述第二表面的所述油墨包含反射颗粒，所述反射颗粒选自由下列组成的组：铝颗粒、银颗粒、金颗粒、钴颗粒、铬颗粒、铂颗粒、钯颗粒、镍颗粒、碳颗粒、氧化铝、二氧化钛、氧化铁、氧化锆、氧化锌、硫化锌、氯氧化铋、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、二氧化铈、氧化钇、氧化铕、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡、三氧化钨、以及它们的混合物。

8.如权利要求5所述的方法，其中所述聚合物膜基材的第一表面上的未印刷的压花区域与聚合物膜基材的第二表面上的印刷元件一致。

9.如权利要求5所述的方法，其中将所述聚合物膜基材层压成第二基材，所述第二基材选自由下列组成的组：纸材和第二聚合物膜基材。

10.如权利要求10所述的方法，其中所述第二基材是聚烯烃膜，其选自由下列组成的组：聚乙烯膜和聚丙烯膜。

11.如权利要求1所述的方法，其中所述压花步骤在所述聚合物的玻璃化转变温度和结晶熔融温度之间的温度进行。