[发明专利]双金属静态垫圈及其构造方法

权利要求书

1.一种静态垫圈，包括：

由一种金属构成的至少一个金属功能层，每个功能层具有由内缘界定的开口，该功能层的开口与待密封的开口同心，每个功能层还具有外缘；

由与所述至少一个功能层不同的金属构成的至少一个金属载体层，每个载体层具有由内缘界定的开口，该内缘用于以线对线或松配合方式容纳所述至少一个功能层的所述外缘；以及

所述至少一个功能层与所述至少一个载体层大体共面，所述至少一个功能层的所述外缘的第一部分与所述至少一个载体层的所述内缘的径向对齐的第一部分在对接焊缝处焊接相连，所述至少一个功能层的所述外缘的第二部分与所述至少一个载体层的所述内缘的径向对齐的第二部分保持分离。

2.如权利要求1所述的静态垫圈，其特征在于，一间隙延伸在所述至少一个功能层的所述外缘的所述第二部分与所述至少一个载体层的所述内缘的所述第二部分之间。

3.如权利要求1所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个功能层包括一对具有外缘的功能层，该外缘容纳于单个载体层的内缘中。

4.如权利要求3所述的静态垫圈，其特征在于，所述一对功能层具有组合厚度，所述单个载体层具有与所述组合厚度大体相等的厚度。

5.如权利要求3所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个金属载体层包括一对彼此间隔地叠置的载体层。

6.如权利要求5所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个功能层包括与所述一对功能层中相邻的功能层镜像设置的第三功能层，所述第三功能层与一个所述载体层焊接相连。

7.如权利要求1所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个载体层具有多个围绕所述至少一个载体层的所述开口延伸的凸起。

8.如权利要求7所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个载体层具有多个紧固开口，所述至少一个载体层具有多个围绕所述至少一个载体层的所述多个紧固开口延伸的凸起。

9.如权利要求8所述的静态垫圈，其特征在于，围绕所述至少一个载体层的所述开口延伸的所述凸起与围绕所述多个紧固开口延伸的凸起具有不同高度。

10.如权利要求1所述的静态垫圈，其特征在于，所述至少一个载体层的所述内缘的所述第一部分径向向内塑性偏移以与所述至少一个功能层的所述外缘的所述第一部分邻接。

11.一种静态垫圈的构造方法，包括：

提供由彼此不同的金属构成的第一层和第二层；

将第一层形成为功能层，该功能层具有与待密封的开口同心的开口，该功能层还具有外缘；

将第二层形成为载体层，该载体层具有由内缘界定的开口，该内缘用于容纳所述功能层的所述外缘；以及

将所述功能层的外缘放置在所述载体层的开口中以便使所述功能层与所述载体层大体共面；

使所述载体层的内缘的一部分偏移以与所述功能层的外缘的径向对齐的部分邻接；以及

使所述载体层的内缘的所述部分与所述功能层的外缘的所述径向对齐的部分焊接相连。

12.如权利要求11所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，使所述载体层的内缘与所述功能层的外缘的径向对齐部分彼此分离。

13.如权利要求11所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，在所述载体层中邻近载体层开口形成通道，并且将挤锻工具伸入该通道中以施加偏移力。

14.如权利要求11所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，在偏移过程中使所述载体层径向向内塑性变形。

15.如权利要求11所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，在所述载体层中围绕载体层材料的开口形成凸起，其中凸起具有穿过载体层相对平面的厚度，该厚度大于所述载体层材料的厚度。

16.如权利要求15所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，在所述载体层中形成多个紧固开口并围绕所述多个紧固开口形成凸起。

17.如权利要求16所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，围绕所述载体层中的开口的凸起和围绕紧固开口的凸起具有不同高度。

18.如权利要求11所述的静态垫圈的构造方法，进一步包括，形成一对具有外缘的功能层，该外缘容纳于单个载体层内缘中。