[发明专利]混合干涉涂层、灯及方法无效
| 申请号: | 201080040620.8 | 申请日: | 2010-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN102498420A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
| 发明(设计)人: | 赵志博;赵天吉;R·S·伊斯雷尔;J·李 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
| 主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;C23C28/04;F21V7/22;H01J61/02 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 柯广华;朱海煜 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 混合 干涉 涂层 方法 | ||
1.一种包括光干涉多层涂层的产品,所述涂层包括:
包括第一多个交替第一层和第二层的第一区域,所述第一层具有较低折射指数,而所述第二层具有比所述第一层更高的折射指数;以及
包括第二多个交替第三层和第四层的第二区域,所述第三层具有较低折射指数,而所述第四层具有比所述第三层更高的折射指数;
其中,所述第一区域通过物理汽相沉积过程形成,而所述第二区域通过化学汽相沉积过程形成。
2.如权利要求1所述的产品,其中,所述PVD过程从由下列项组成的组中选取:热蒸发;RF蒸发;电子束蒸发;反应蒸发;DC溅射;RF溅射;微波溅射;磁控管溅射;微波增强DC磁控管溅射;电弧等离子体沉积;反应溅射;激光消融及它们的组合。
3.如权利要求1所述的产品,其中,所述CVD过程从由下列项组成的组中选取:大气压力CVD;低压CVD;高真空CVD;超高真空CVD;气溶胶辅助CVD;直接液体注入CVD;微波等离子体辅助CVD;等离子体增强CVD;远程等离子体增强CVD;原子层CVD;热丝CVD;有机金属CVD;混合物理化学汽相沉积;快速热CVD;汽相外延及它们的组合。
4.如权利要求1所述的产品,
其中,所述第一区域在所述第一多个交替第一层和第二层中具有第一平均界面粗糙度,而所述第二区域在所述第二多个交替第三层和第四层中具有第二平均界面粗糙度,以及
其中,所述第一平均界面粗糙度大于所述第二平均界面粗糙度。
5.如权利要求4所述的产品,其中,所述第一平均界面粗糙度比所述第二平均界面粗糙度大至少约10%。
6.如权利要求1所述的产品,其中,所述第一层和所述第三层包括从陶瓷材料、耐火材料、金属或准金属氧化物、金属或准金属氟化物、以及金属或准金属氮化物中独立选择的材料。
7.如权利要求1所述的产品,其中,所述第二层和所述第四层包括从Ti、Zr、Hf、Nb、W、Mo、In及Ta中选择的一种或多种金属的一种或多种氧化物或混合氧化物中独立选择的材料。
8.如权利要求1所述的产品,其中,所述第一区域包括从所述涂层总几何厚度的约50%至约90%的几何厚度,而所述第二区域包括从所述涂层总几何厚度的约10%至约50%的几何厚度。
9.如权利要求1所述的产品,其中,所述涂层在可见光中具有大于60%的平均透射率,并且在电磁谱的红外区具有至少约30%的平均反射率。
10.一种灯,包括:
具有表面的透光外壳;以及光源,所述外壳至少部分包围所述光源;
其中,所述透光外壳的所述表面的至少一部分提供有包括下列项的光干涉多层涂层,
(a)包括第一多个交替第一层和第二层的第一区域,所述第一层具有较低折射指数,而所述第二层具有比所述第一层更高的折射指数;以及
(b)包括第二多个交替第三层和第四层的第二区域,所述第三层具有较低折射指数,而所述第四层具有比所述第三层更高的折射指数;
其中,所述第一区域通过化学汽相沉积过程形成,而所述第二区域通过物理汽相沉积过程形成。
11.如权利要求10所述的灯,其中,所述光干涉多层涂层在所述外壳的内表面或外表面中之一或两者上提供。
12.如权利要求10所述的灯,其中,所述光源包括灯丝,并且其中,与赋能到相同热灯丝温度但没有所述涂层的同一个灯相比,所述灯在赋能到所述热灯丝温度时呈现从约20%至约150%的LPW增益。
13.如权利要求10所述的灯,还包括至少一个电气元件,其布置在所述外壳中并且连接到贯穿所述外壳的供电导体。
14.如权利要求10所述的灯,其中,所述光源包括灯丝或电弧的一个或多个。
15.如权利要求10所述的灯,其中,所述外壳包围选择用于提升灯寿命、质量和/或性能的填充气体。
16.如权利要求10所述的灯,
其中,所述第一区域在所述第一多个交替第一层和第二层中具有第一平均界面粗糙度,而所述第二区域在所述第二多个交替第三层和第四层中具有第二平均界面粗糙度,以及
其中,所述第一平均界面粗糙度大于所述第二平均界面粗糙度。
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