[发明专利]具有可控表面形态的光学薄膜及其制造方法

权利要求书

1.一种光学薄膜的制造方法，其包括将聚合物溶液用于溶液浇铸并且通过提供干燥空气至铸机中以干燥所述聚合物溶液，从而在与所述干燥空气接触的铸层表面形成坑，同时在一个坑和另一个坑之间形成台地，由此控制成品薄膜的表面粗糙度，其中所述干燥空气包含与所述聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体。

2.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，与所述聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体为水蒸汽。

3.如权利要求2所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述光学薄膜具有5nm-20μm的表面粗糙度(Ra)。

4.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述光学薄膜为选自酰化纤维素基薄膜、丙烯酸薄膜、聚降冰片烯基薄膜、聚碳酸酯基薄膜、聚砜基薄膜、聚醚砜基薄膜、聚苯乙烯基薄膜、聚醚醚酮基薄膜、聚乙烯醇基薄膜、聚乙酸乙烯酯基薄膜中的任意一种。

5.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述聚合物溶液包括酰化纤维素树脂、溶剂和添加剂，且所述溶剂为选自二氯甲烷、乙酸甲酯、酮类、醇类及其混合物中的至少一种。

6.如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述添加剂为选自塑化剂、褪光剂、微粒粉末、表面活性剂、UV吸收剂、剥离剂、波长色散调整剂、光学各向异性控制剂及其混合物中的至少一种。

7.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其还包括在所述干燥后，在所述光学薄膜的任意一个表面或者两个表面上涂覆防刮透明涂层、防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层、防静电涂层或液晶涂层。

8.一种通过权利要求1至7中任一项限定的方法获得的光学薄膜。

9.如权利要求8所述的光学薄膜，其为光扩散薄膜或光学补偿薄膜。

10.如权利要求8所述的光学薄膜，其为用于IPS型、VA型或TN型液晶显示装置的光学补偿薄膜。

11.一种使用由权利要求1至7中任一项所限定的方法获得的光学薄膜的偏光板。

12.一种使用如权利要求11所限定的偏光板的液晶显示装置或OLED显示装置。

13.一种通过在溶液浇铸期间使用干燥空气在其表面上形成坑和台地而具有可控的表面粗糙度的光学薄膜，其中所述干燥空气包含与聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体。

14.如权利要求13所述的光学薄膜，其中，与聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体为水蒸汽。

15.如权利要求14所述的光学薄膜，其为选自酰化纤维素基薄膜、丙烯酸薄膜、聚降冰片烯基薄膜、聚碳酸酯基薄膜、聚砜基薄膜、聚醚砜基薄膜、聚苯乙烯基薄膜、聚醚醚酮基薄膜、聚乙烯醇基薄膜、聚乙酸乙烯酯基薄膜中的任意一种。

16.如权利要求15所述的光学薄膜，其中，所述聚合物溶液包括酰化纤维素树脂、溶剂和添加剂，且所述溶剂为选自二氯甲烷、乙酸甲酯、酮类、醇类及其混合物中的至少一种。

17.如权利要求16所述的光学薄膜，其中，所述添加剂为选自塑化剂、褪光剂、微粒粉末、表面活性剂、UV吸收剂、剥离剂、波长色散调整剂、光学各向异性控制剂及其混合物中的至少一种。

18.如权利要求13至17中任一项所述的光学薄膜，其具有5nm-20μm的表面粗糙度(Ra)。

19.如权利要求18所述的光学薄膜，其还包括在其任意一个表面或者两个表面上的选自下组中的至少一个涂层：防刮透明涂层、防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层、防静电涂层或液晶涂层。

20.如权利要求19所述的光学薄膜，其具有20-150μm的厚度。